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    Thin-Film Polycrystalline-Silicon Solar Cells on Ceramic Substrates Made by Aluminum-Induced Crystallization and Thermal CVD : Amorphous and polycrystalline thin-film silicon science and technology
    Gordon, I. ; Van Gestel, D. ; et al.
    In: MATERIALS RESEARCH SOCIETY SYMPOSIUM PROCEEDINGS, Jg. 910 (2007), S. 641-646
    Konferenz
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    Silicon Etching Study in a RT-CVD Reactor With the HCI/H2 Gas Mixture : Amorphous and polycrystalline thin-film silicon science and technology
    Loubet, N. ; Talbot, A. ; et al.
    In: MATERIALS RESEARCH SOCIETY SYMPOSIUM PROCEEDINGS, Jg. 910 (2007), S. 661-668
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Hot-Wire CVD a-Si:H TFT on Plastic Substrates : Amorphous and polycrystalline thin-film silicon science and technology
    Taghibakhsh, F. ; Karim, K. S.
    In: MATERIALS RESEARCH SOCIETY SYMPOSIUM PROCEEDINGS, Jg. 910 (2007), S. 429-434
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    The Influence of the Hot Wire Temperature on the Crystallization of muc-Si:H Films Prepared by Hot Wire-Assisted-ECR-CVD : Amorphous and polycrystalline thin-film silicon science and technology
    Li, Y. ; Li, Z. Z. ; et al.
    In: MATERIALS RESEARCH SOCIETY SYMPOSIUM PROCEEDINGS, Jg. 910 (2007), S. 207-212
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Incubation Layer-Free Nanocrystalline-Si Thin Film Fabricated by ICP-CVD at 150^oC for Flexible Electronics : Amorphous and polycrystalline thin-film silicon science and technology
    Han, S. M. ; Cha, Y. K. ; et al.
    In: MATERIALS RESEARCH SOCIETY SYMPOSIUM PROCEEDINGS, Jg. 910 (2007), S. 189-194
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    The Effect of Oxygen Contamination on the Electronic Properties of Hot-Wire CVD Amorphous Silicon Germanium Alloys : Amorphous and polycrystalline thin-film silicon science and technology
    Datta, S. ; Cohen, J. D. ; et al.
    In: MATERIALS RESEARCH SOCIETY SYMPOSIUM PROCEEDINGS, Jg. 910 (2007), S. 47-54
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Reaction Mechanism for Deposition of Silicon Nitride by Hot-Wire CVD With Ultra High Deposition Rate (>7 nm/s) : Amorphous and polycrystalline thin-film silicon science and technology
    Verlaan, V. ; Houweling, Z. S. ; et al.
    In: MATERIALS RESEARCH SOCIETY SYMPOSIUM PROCEEDINGS, Jg. 910 (2007), S. 61-68
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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