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    The Role of the Gas Phase in Graphene Formation by CVD on Copper
    Zenasni, Aziz ; Vergnes, Hugues ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 20 (2013-10-31), S. 51-58
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    Deposition of Hexagonal Boron Nitride from N-Trimethylborazine (TMB) for Continuous CVD Coating of SiBNC Fibers
    Krüger, Reinhard ; Ye, Yaping ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 18 (2012-09-01), S. 249-255
    Online unknown
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    Low Temperature CVD of Thin, Amorphous Boron-Carbon Films for Neutron Detectors
    Henry, Anne ; Jensen, Jens ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 18 (2012-07-19), S. 221-224
    Online unknown
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    Production and Detection of H Atoms and Vibrationally Excited H2 Molecules in CVD Processes
    Umemoto, Hironobu
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 16 (2010-12-22), Heft 10-12, S. 275-290
    Online unknown
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    The World of Carbon Nanotubes: An Overview of CVD Growth Methodologies
    Sessa, Vito ; Maria Letizia Terranova ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 12 (2006-06-01), S. 315-325
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    CVD of Metals Using Alcohols and Metal Acetylacetonates, Part I: Optimization of Process Parameters and Electrical Characterization of Synthesized Films
    Peter Antony Premkumar ; Bahlawane, Naoufal ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 13 (2007-05-01), S. 219-226
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    Evaluation of Chemometric Models in an FTIR Study of the Gas Phase During Atmospheric-Pressure CVD of Tin Oxide Thin Films
    Spee, Cima ; van Amb Ton Mol ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 6 (2000-10-01), S. 261-268
    Online unknown
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    CVD Deposited Titania Thin Films for Gas Sensors with Improved Operating Characteristics
    Filatov, Leonid A. ; Alexandrov, Sergey E. ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 21 (2015-11-23), S. 327-333
    Online unknown
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  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    CVD Growth of MoS2-based Two-dimensional Materials
    Swee Liang Wong ; Liu, Hongfei ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 21 (2015-11-13), S. 241-259
    Online unknown
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  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    A Facile Route to Thin Films of Zinc Carbodiimide Using Aerosol-assisted CVD
    Grantham, William ; Hyett, Geoffrey ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 21 (2015-11-10), S. 281-287
    Online unknown
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  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Uniform Coating of Microparticles using CVD Polymerization
    Jordahl, Jacob H. ; Deng, Xiaopei ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 21 (2015-11-23), S. 288-293
    Online unknown
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  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Metal-organic CVD of Y2O3Thin Films using Yttriumtris-amidinates
    Prenzel, Marina ; Karle, Sarah ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 21 (2015-11-19), S. 335-342
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  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Silicon Oxycarbide Films Produced by Remote Microwave Hydrogen Plasma CVD using a Tetramethyldisiloxane Precursor: Growth Kinetics, Structure, Surface Morphology, and Properties
    Walkiewicz-Pietrzykowska, Agnieszka ; Wrobel, Aleksander M. ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 21 (2015-11-17), S. 307-318
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Photo-oxidation of Polymers Synthesized by Plasma and Initiated CVD
    Suresh, Aravind ; Hanania, Jiries ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 21 (2015-11-09), S. 267-274
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Designing Non-uniform Wafer Micro-topography for Macroscopic Uniformity in Multi-scale CVD Processes
    Kallikounis, Nikolaos ; Boudouvis, Andreas G. ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 20 (2014-10-13), S. 364-372
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    CVD on Optical Fibers: Tilted Fiber Bragg Gratings as Real-time Sensing Platforms
    Barry, Seán T. ; Albert, Jacques ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 21 (2014-10-08), S. 4-20
    Online unknown
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Low-Temperature Thermal CVD of Ti–Al Metal Films Using a Strong Reducing Agent
    Nooney, Matthew ; Ludviksson, Audunn ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 4 (1998-07-01), S. 129-132
    Online unknown
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Electric-Field Aerosol-Assisted CVD: Synthesis, Characterization, and Properties of Tin Oxide Microballs Prepared from a Single Source Precursor
    Wan Jefrey Basirun ; K. G. Upul Wijayantha ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 21 (2015-11-12), S. 360-368
    Online unknown
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Electrochemical Performance of Vanadium Oxide Coatings Grown using Atmospheric Pressure CVD
    Koudoumas, Emmanouil ; Apostolopoulou, M. ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 21 (2015-11-10), S. 369-374
    Online unknown
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  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    A Quantum Chemical Descriptor for CVD Precursor Design: Predicting Decomposition Rates of TBP and TBAs Isomers and Derivatives
    Stegmüller, Andreas ; Tonner, Ralf
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 21 (2015-09-01), S. 161-165
    Online unknown
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