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    Low Temperature CVD of Thin, Amorphous Boron-Carbon Films for Neutron Detectors
    Henry, Anne ; Jensen, Jens ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 18 (2012-07-19), S. 221-224
    Online unknown
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    a-SiC:H Films by Remote Hydrogen Microwave Plasma CVD From Ethylsilane Precursors**
    Glebocki, Bartosz ; Wrobel, Aleksander M. ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 19 (2013-08-07), S. 242-250
    Online unknown
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    Properties of Amorphous Hydrogenated Silicon Carbide (a-SiC:H) Films Formed by Remote Hydrogen Microwave Plasma CVD From a Triethylsilane Precursor: Part 2
    Wrobel, Aleksander M. ; Walkiewicz-Pietrzykowska, Agnieszka ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 15 (2009-03-01), S. 47-52
    Online unknown
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    Plasma CVD characterization of nanocarbon film growth
    Ustinov, A. O. ; Volkov, A. P. ; et al.
    In: Surface and Interface Analysis, Jg. 36 (2004-05-01), S. 481-484
    Online unknown
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    Structure-Property Relationships of Amorphous Hydrogenated Silicon-Carbon Films Produced by Atomic Hydrogen-Induced CVD from a Single-Source Precursor
    Wickramanayaka, Sunil ; Nakanishi, Yoichiro ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 6 (2000-11-01), S. 315-322
    Online unknown
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  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Mechanism of the Initiation Step in Atomic Hydrogen-Induced CVD of Amorphous Hydrogenated Silicon–Carbon Films from Single-Source Precursors
    Walkiewicz-Pietrzykowska, Agnieszka ; Wrobel, Aleksander M.
    In: Chemical Vapor Deposition, 1998-07-01, S. 133-141
    Online unknown
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    Atmospheric Pressure MOCVD of Thin Fe Films on Carbon Fibers
    Luo, Rui-Ying ; Luo, Jing-Hua ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 13 (2007-10-01), S. 574-580
    Online unknown
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    Wie komme ich dran?
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