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    Characterization of Chemical Vapor-Deposited (CVD) Mullite+CVD Alumina+Plasma-Sprayed Tantalum Oxide Coatings on Silicon Nitride Vanes After an Industrial Gas Turbine Engine Field Test.
    Haynes, J. A. ; Zemskova, S. M. ; et al.
    In: Journal of the American Ceramic Society, Jg. 89 (2006-11-01), Heft 11, S. 3560-3563
    Online academicJournal
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    Surface Pretreatments of Silicon Nitride for CVD Diamond Deposition.
    Belmonte, Manuel ; Silva, Vitor A. ; et al.
    In: Journal of the American Ceramic Society, Jg. 86 (2003-05-01), Heft 5, S. 749-754
    Online academicJournal
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    Volltext (PDF)
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    Annealing effect of low-temperature (<150°C) Cat-CVD gate dielectric silicon nitride films diluted with atomic hydrogen.
    Keum, Ki-Su ; Lee, Kyoung-Min ; et al.
    In: Journal of the Society for Information Display, Jg. 19 (2011-09-01), Heft 9, S. 623-626
    Online academicJournal
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    Impact of stress in ICP-CVD SiNx passivation films on the leakage current in AlGaN/GaN HEMTs.
    Cho, S. J. ; Li, X. ; et al.
    In: Electronics Letters (Wiley-Blackwell), Jg. 54 (2018-07-26), Heft 15, S. 947-948
    Online academicJournal
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    Oxidation of CVD Si3N4 at 1550° to 1650° C.
    Hirai, T.
    In: Journal of the American Ceramic Society, Jg. 63 (1980-07-01), S. 419-424
    Online academicJournal
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    Transparent silicon carbide/tunnel SiO2 passivation for c‐Si solar cell front side: Enabling Jsc > 42 mA/cm2 and iVoc of 742 mV.
    Pomaska, Manuel ; Köhler, Malte ; et al.
    In: Progress in Photovoltaics, Jg. 28 (2020-04-01), Heft 4, S. 321-327
    Online academicJournal
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    Optimization of Chemical Vapor Deposition Parameters for Fabrication of Oxidation-Resistant Mullite Coatings on Silicon Nitride.
    Zemskova, Svetlana M. ; Jones, Camille Y. ; et al.
    In: Journal of the American Ceramic Society, Jg. 87 (2004-12-01), Heft 12, S. 2201-2207
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
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    Diamond Growth on a Si Substrate With Ceramic Interlayers.
    Li, Y. S. ; Xiao, C. ; et al.
    In: Journal of the American Ceramic Society, Jg. 90 (2007-05-01), Heft 5, S. 1427-1433
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
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    31-2: Optimization of TFE Structure by FTIR Analysis and Mechanical Simulation to Achieve Excellent Encapsulation and High Flexibility AMOLED.
    Chiou, Ji-Yi ; Liu, Yen-Wei ; et al.
    In: SID Symposium Digest of Technical Papers, Jg. 48 (2017-05-01), Heft 1, S. 437-440
    Online academicJournal
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    Direct Growth of Edge‐Rich Graphene with Tunable Dielectric Properties in Porous Si3N4 Ceramic for Broadband High‐Performance Microwave Absorption.
    Ye, Fang ; Song, Qiang ; et al.
    In: Advanced Functional Materials, Jg. 28 (2018-04-25), Heft 17, S. 1-10
    Online academicJournal
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    Preparation and Corrosion Resistance of Amorphous SiNx Films from Hexamethyldisiloxane Solution by PECVD.
    Li, Y. S. ; Shimada, S.
    In: Journal of the American Ceramic Society, Jg. 88 (2005-10-01), Heft 10, S. 2966-2969
    Online academicJournal
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    Developing Interfacial Carbon-Boron-Silicon Coatings for Silicon Nitride-Fiber-Reinforced Composites for Improved Oxidation Resistance.
    Sato, Kiyoshi ; Morozumi, Hiroki ; et al.
    In: Journal of the American Ceramic Society, Jg. 85 (2002-07-01), Heft 7, S. 1815-1822
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    High Temperature Behavior of Si3N4 and Yb2SiO5 Coated Carbon Fibers for Silicon-Nitride CMC.
    Pontiller, Peter ; Willert‐Porada, M.
    In: Advanced Engineering Materials, Jg. 16 (2014-05-01), Heft 5, S. 556-564
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    Microstructure and Properties of Porous Si.
    Li, Xiangming ; Yin, Xiaowei ; et al.
    In: International Journal of Applied Ceramic Technology, Jg. 8 (2011-05-01), Heft 3, S. 627-634
    Online academicJournal
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    Improvement of cutting performance of silicon nitride tool by adherent coating of thick diamond film.
    Itoh, Hideaki ; Shimura, Sadanori ; et al.
    In: Journal of the American Ceramic Society, Jg. 80 (1997), S. 189-196
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    A New Synthesis Method for Producing Si3N4 Whiskers by Heat Treating Porous Si Objects.
    Hanjun, Hu ; Wan-Cheng, Zhou ; et al.
    In: Journal of the American Ceramic Society, Jg. 91 (2008-11-01), Heft 11, S. 3800-3802
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    Oxidation behavior of chemically-vapor-deposited silicon carbide and silicon nitride from 1200° to 1600°C.
    Fox, Dennis S.
    In: Journal of the American Ceramic Society, Jg. 81 (1998-04-01), Heft 4, S. 945-950
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    Na2SO4-induced corrosion of Si3N4 coated with chemically vapor deposited Ta2O5.
    Lee, Woo Y. ; Bae, Yong W. ; et al.
    In: Journal of the American Ceramic Society, Jg. 78 (1995-07-01), S. 1927-1930
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    High-temperature oxidation of chemically vapor-deposited silicon nitride in a carbon monoxide-carbon dioxide atmosphere.
    Narushima, Takayuki ; Goto, Takashi ; et al.
    In: Journal of the American Ceramic Society, Jg. 77 (1994-11-01), S. 2921-2925
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    High-temperature active oxidation and active-to-passive transition of chemically vapor-deposited silicon nitride in N2-O2 and Ar-O2 atmospheres.
    Narushima, Takayuki ; Goto, Takashi ; et al.
    In: Journal of the American Ceramic Society, Jg. 77 (1994-09-01), S. 2369-2375
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