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    Neural-ILT 2.0: Migrating ILT to Domain-Specific and Multitask-Enabled Neural Network
    Jiang, B. ; Liu, L. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Computer-Aided Design of Integrated Circuits and Systems, Jg. 41 (2022-08-01), Heft 8, S. 2671-2684
    Online academicJournal
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    Exploring Rule-Free Layout Decomposition via Deep Reinforcement Learning
    Jiang, B. ; Zang, X. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Computer-Aided Design of Integrated Circuits and Systems, Jg. 42 (2023-09-01), Heft 9, S. 3067-3077
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    Sub-Resolution Assist Feature Cleanup Based on Grayscale Map
    Gao, P. ; Su, X. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 32 (2019-11-01), Heft 4, S. 583-588
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
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  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Gradient-Based Source and Mask Optimization in Optical Lithography
    Peng, Y. ; Zhang, J. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Image Processing, Jg. 20 (2011-10-01), Heft 10, S. 2856-2864
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    Fast Convolution Method and Its Application in Mask Optimization for Intensity Calculation Using Basis Expansion
    Sun, Y. ; Zhang, J. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Image Processing, Jg. 23 (2014-12-01), Heft 12, S. 4982-4982
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Study of Inverse Lithography Approaches based on Deep Learning
    Xianqiang Zheng;Xu Ma;Shengen Zhang;Yihua Pan;Gonzalo RArce
    In: 微电子制造学报 / Journal of Microelectronic Manufacturing, Jg. 3 (2020), Heft 3, S. 1
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  7. Detailansicht für Treffer 7 öffnen
    Double-dipole mask-synthesis using inverse lithography technology
    WEI, XIONG ; JINYU, ZHANG ; et al.
    In: Microelectronic engineering, Jg. 87 (2010), Heft 4, S. 560-565
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    L2O-ILT: Learning to Optimize Inverse Lithography Techniques
    Zhu, B. ; Zheng, S. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Computer-Aided Design of Integrated Circuits and Systems, Jg. 43 (2024-03-01), Heft 3, S. 944-955
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    Gradient-Based Source and Mask Optimization in Optical Lithography
    YAO, PENG ; JINYU, ZHANG ; et al.
    In: IEEE transactions on image processing, Jg. 20 (2011), Heft 10, S. 2856-2864
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    DevelSet: Deep Neural Level Set for Instant Mask Optimization
    Chen, G. ; Yu, Z. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Computer-Aided Design of Integrated Circuits and Systems, Jg. 42 (2023-12-01), Heft 12, S. 5020-5033
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Inverse Lithography Source Optimization via Particle Swarm Optimization and Genetic Combined Algorithm
    Sun, H. ; Zhang, Q. ; et al.
    In: IEEE Photonics Journal, Jg. 15 (2023-04-01), Heft 2, S. 1-12
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
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  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Inverse lithography technology: 30 years from concept to practical, full-chip reality.
    Pang, Linyong
    In: Journal of Micro/Nanolithography, MEMS & MOEMS, Jg. 20 (2021-07-01), Heft 3, S. 30901-30901
    academicJournal
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  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    A self-training end-to-end mask optimization framework based on semantic segmentation network.
    Xu, Hui ; Tang, Fuxin ; et al.
    In: Integration: The VLSI Journal, Jg. 96 (2024-05-01), S. N.PAG
    academicJournal
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Double-dipole mask-synthesis using inverse lithography technology
    Xiong, Wei ; Zhang, Jinyu ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 87 (2010-04-01), Heft 4, S. 560-565
    academicJournal
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    GAN-OPC: Mask Optimization With Lithography-Guided Generative Adversarial Nets.
    Yang, Haoyu ; Li, Shuhe ; et al.
    In: IEEE Transactions on Computer-Aided Design of Integrated Circuits & Systems, Jg. 39 (2020-10-01), Heft 10, S. 2822-2834
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Fast Level-Set-Based Inverse Lithography Algorithm for Process Robustness Improvement and Its Application.
    Geng, Zhen ; Shi, Zheng ; et al.
    In: Journal of Computer Science & Technology (10009000), Jg. 30 (2015-05-01), Heft 3, S. 629-638
    Online academicJournal
    Zugriff:
    View record at Springer (Volltext)
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Inverse e-beam lithography on photomask for computational lithography.
    Choi, Jin ; Ji Soong Park ; et al.
    In: Journal of Micro/Nanolithography, MEMS & MOEMS, Jg. 13 (2014), Heft 1, S. 1-8
    academicJournal
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    Study on various curvilinear data representations and their impact on mask and wafer manufacturing.
    Choi, Jin ; Ryu, Soo ; et al.
    In: Journal of Micro/Nanolithography, MEMS & MOEMS, Jg. 20 (2021-10-01), Heft 4, S. 41403-41403
    academicJournal
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Generation of inverse assist features using generative adversarial networks.
    Cao, Qingchen ; Xu, Peng ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 273 (2023-03-15), S. N.PAG
    academicJournal
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  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Mechanically tunable three-dimensional elastomeric network/air structures via interference lithography
    JANG, Ji-Hyun ; ULLAL, Chaitanya K ; et al.
    In: Nano letters (Print), Jg. 6 (2006), Heft 4, S. 740-743
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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