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  1. Caillau, Mathieu ; Chevalier, Céline ; et al.
    In: SPIE Advanced Lithography ; https://hal.science/hal-02019125 ; SPIE Advanced Lithography, Feb 2018, San Jose, United States. pp.105870S, ⟨10.1117/12.2292312⟩, 2018
    Online Konferenz
  2. Duée, Cédric ; Hénault, Marie ; et al.
    In: 15th Dusty Plasma Workshop ; https://brgm.hal.science/hal-01773839 ; 15th Dusty Plasma Workshop, May 2018, Baltimore, United States ; https://wpdp.umbc.edu/, 2018
    Online Konferenz
  3. Caillau, Mathieu ; Chevalier, Céline ; et al.
    In: SPIE Advanced Lithography ; https://hal.science/hal-02019125 ; SPIE Advanced Lithography, Feb 2018, San Jose, United States. pp.105870S, ⟨10.1117/12.2292312⟩, 2018
    Online Konferenz
  4. Caillau, Mathieu ; Chevalier, Céline ; et al.
    In: SPIE Advanced Lithography ; https://hal.science/hal-02019125 ; SPIE Advanced Lithography, Feb 2018, San Jose, United States. pp.105870S, ⟨10.1117/12.2292312⟩, 2018
    Online Konferenz
  5. Caillau, Mathieu ; Chevalier, Céline ; et al.
    In: SPIE Advanced Lithography ; https://hal.science/hal-02019125 ; SPIE Advanced Lithography, Feb 2018, San Jose, United States. pp.105870S, ⟨10.1117/12.2292312⟩, 2018
    Online Konferenz
  6. Caillau, Mathieu ; Chevalier, Céline ; et al.
    In: SPIE Advanced Lithography ; https://hal.science/hal-02019125 ; SPIE Advanced Lithography, Feb 2018, San Jose, United States. pp.105870S, ⟨10.1117/12.2292312⟩, 2018
    Online Konferenz
  7. Caillau, Mathieu ; Chevalier, Céline ; et al.
    In: SPIE Advanced Lithography ; https://hal.science/hal-02019125 ; SPIE Advanced Lithography, Feb 2018, San Jose, United States. pp.105870S, ⟨10.1117/12.2292312⟩, 2018
    Online Konferenz
  8. Caillau, Mathieu ; Chevalier, Céline ; et al.
    In: SPIE Advanced Lithography ; https://hal.science/hal-02019125 ; SPIE Advanced Lithography, Feb 2018, San Jose, United States. pp.105870S, ⟨10.1117/12.2292312⟩, 2018
    Online Konferenz
  9. Barnini, Alexandre ; Robin, Thierry ; et al.
    In: Photonics West 2018 ; https://hal.science/hal-02327630 ; Photonics West 2018, Jan 2018, San Francisco, United States, 2018
    Online Konferenz
  10. CAILLAU, Mathieu ; Chevalier, Céline ; et al.
    In: SPIE Advanced Lithography ; https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-02019125 ; SPIE Advanced Lithography, Feb 2018, San Jose, United States. pp.105870S, ⟨10.1117/12.2292312⟩, 2018
    Online Konferenz
  11. Barnini, Alexandre ; Robin, Thierry ; et al.
    In: Photonics West 2018 ; https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-02327630 ; Photonics West 2018, Jan 2018, San Francisco, United States, 2018
    Online Konferenz
  12. Duée, Cédric ; Hénault, Marie ; et al.
    In: 15th Dusty Plasma Workshop ; https://hal-brgm.archives-ouvertes.fr/hal-01773839 ; 15th Dusty Plasma Workshop, May 2018, Baltimore, United States ; https://wpdp.umbc.edu/, 2018
    Online Konferenz
  13. Duée, Cédric ; Hénault, Marie ; et al.
    In: 15th Dusty Plasma Workshop ; https://brgm.hal.science/hal-01773839 ; 15th Dusty Plasma Workshop, May 2018, Baltimore, United States ; https://wpdp.umbc.edu/, 2018
    Online Konferenz
  14. Ranger, Nicolas ; Jaoul, Cédric ; et al.
    In: ICMCTF 2022 (International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films) ; https://unilim.hal.science/hal-03814055 ; ICMCTF 2022 (International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films), May 2022, San Diego, United States, 2022
    Konferenz
  15. Ranger, Nicolas ; Jaoul, Cédric ; et al.
    In: ICMCTF 2022 (International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films) ; https://hal-unilim.archives-ouvertes.fr/hal-03814055 ; ICMCTF 2022 (International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films), May 2022, San Diego, United States, 2022
    Konferenz
  16. Bouzouita, A ; Samuel, Cédric ; et al.
    In: 255th ACS National Meeting and Exposition ; https://hal.univ-lille.fr/hal-04289430 ; 255th ACS National Meeting and Exposition, Mar 2018, New Orléans, United States, 2018
    Konferenz
  17. Braz Ribeiro, Frédéric ; Plesse, Cedric ; et al.
    In: Electroactive Polymer Actuators and Devices (EAPAD) XX ; https://hal.science/hal-03287097 ; Electroactive Polymer Actuators and Devices (EAPAD) XX, Mar 2018, Denver, United States. ⟨10.1117/12.2300774⟩, 2018
    Konferenz
  18. Mery, Adrien ; Pierre, Bernard ; et al.
    In: 233rd ECS Meeting ; https://cea.hal.science/cea-02368324 ; 233rd ECS Meeting, Apr 2018, Seattle, United States. pp.467, 2018
    Konferenz
  19. Woehling, Vincent ; Nguyen, Giao ; et al.
    In: Electroactive Polymer Actuators and Devices (EAPAD) XX ; https://hal.science/hal-03287094 ; Electroactive Polymer Actuators and Devices (EAPAD) XX, Mar 2018, Denver, United States. ⟨10.1117/12.2300764⟩, 2018
    Konferenz
  20. Mery, Adrien ; Pierre, Bernard ; et al.
    In: 233rd ECS Meeting ; https://hal-cea.archives-ouvertes.fr/cea-02368324 ; 233rd ECS Meeting, Apr 2018, Seattle, United States. pp.467, 2018
    Konferenz
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