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    Data storage applications based on LiCoO2 thin films grown on Al2O3 and Si substrates
    Svoukis, Efthymios ; Mihailescu, C. N. ; et al.
    In: E-MRS ; https://centralesupelec.hal.science/hal-01355383 ; E-MRS, Sep 2015, Varsovie, Poland, 2015
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Data storage applications based on LiCoO2 thin films grown on Al2O3 and Si substrates
    Svoukis, Efthymios ; Mihailescu, C. N. ; et al.
    In: E-MRS ; https://centralesupelec.hal.science/hal-01355383 ; E-MRS, Sep 2015, Varsovie, Poland, 2015
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Resistive switching behavior in LixCoO2-based devices fabricated on Si
    C.M., Orfanidou ; Mihailescu, C N ; et al.
    In: E-MRS ; https://centralesupelec.hal.science/hal-01441139 ; E-MRS, Sep 2016, Varsovie, Poland, 2016
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Resistive switching behavior in LixCoO2-based devices fabricated on Si
    C.M., Orfanidou ; Mihailescu, C N ; et al.
    In: E-MRS ; https://centralesupelec.hal.science/hal-01441139 ; E-MRS, Sep 2016, Varsovie, Poland, 2016
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Resistive switching behavior in LixCoO2-based devices fabricated on Si
    C.M., Orfanidou ; Mihailescu, C N ; et al.
    In: E-MRS ; https://hal-centralesupelec.archives-ouvertes.fr/hal-01441139 ; E-MRS, Sep 2016, Varsovie, Poland, 2016
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Data storage applications based on LiCoO2 thin films grown on Al2O3 and Si substrates
    Svoukis, Efthymios ; Mihailescu, C. N. ; et al.
    In: E-MRS ; https://hal-centralesupelec.archives-ouvertes.fr/hal-01355383 ; E-MRS, Sep 2015, Varsovie, Poland, 2015
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Data storage applications based on LiCoO2 thin films grown on Al2O3 and Si substrates
    Svoukis, Efthymios ; Mihailescu, C. N. ; et al.
    In: E-MRS ; https://hal-centralesupelec.archives-ouvertes.fr/hal-01355383 ; E-MRS, Sep 2015, Varsovie, Poland, 2015
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
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