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    Deposition of tungsten nitride films by thermal CVD using liquid source material / 液体原料を用いた熱CVDによる窒化タングステン膜の成膜
    Nakamura, Masayuki ; Motoyama, Shin-ichi ; et al.
    2020
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Numerical Analysis of Input-Power Dependence of DLC Film Deposition Process by Low-Pressure and Radio Frequency Ar/CH4 plasma-enhanced CVD / 低圧RFAr/CH4プラズマCVDによるDLC成膜過程に及ぼす投入電力の影響に関する数値解析
    Oda, Akinori ; Ishii, Koichi ; et al.
    2020
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Droplet-Vaporization Behavior in Plasma during Plasma-assisted Mist Chemical Vapor Deposition (II) / プラズマ支援ミストCVDにおけるプラズマ中の液滴蒸発挙動（II）
    Takenaka, Kosuke ; Setsuhara, Yuichi ; et al.
    2019
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Droplet-Vaporization Behavior in Plasma during Plasma-assisted Mist Chemical Vapor Deposition / プラズマ支援ミストCVDにおけるプラズマ中の液滴蒸発挙動
    Takenaka, Kosuke ; Setsuhara, Yuichi ; et al.
    2019
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    Deposition of a-C:H films using H-assisted plasma CVD method together with tailored voltage waveforms / 水素原子源付プラズマCVD法に任意電圧波形を併用したa-C:H薄膜の堆積
    Yamashita, Daisuke ; Seo, Hyunwoong ; et al.
    2018
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Study on the low temperature and highly efficient deposition process of Silicon Oxide Gate Dielectric layers Using Atmospheric Pressure Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition / 大気圧プラズマCVDによるSiOXゲート絶縁膜の低温・高能率形成プロセスの研究
    Kakiuchi, Hiroaki ; Ohmi, Hiromasa ; et al.
    2018
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    CVD法によるMoS2の形態制御とプラズマ処理による硫黄欠陥密度の最適化
    Morphology Control of MoS2 by Chemical Vapor Deposition and Optimization of Sulfur Defect Density by Plasma Treatment
    2021
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    H2/CH4 プラズマCVD モデルにおけるH2 希釈率がDLC 堆積速度に及ぼす影響の解析 / Numerical Analysis of Influence of H2 Dilution Rate on DLC Deposition Rate using H2/CH4 Plasma-Enhanced CVD Model
    Oda, Akinori ; Kousaka, Hiroyuki ; et al.
    2019
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    Ar/CH4プラズマCVDモデルにおけるAr混合比がDLC膜表面および水素含有率に及ぼす影響の解析 / Numerical Analysis of Influence of Ar Mixture-Ratio on DLC surface condition and H content using Ar/CH4 Plasma-Enhanced CVD Model
    Oda, Akinori ; Kousaka, Hiroyuki ; et al.
    2020
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Layer-Controlled Grown of MoS2 by CVD and Dependence of Hydrogen Post-Plasma Treatment on S/Mo Ratio / MoS2膜の層数制御成長と水素プラズマ処理によるS/Mo比の依存性
    Ogino, Akihisa ; Sugiyama, Masahiro ; et al.
    2018
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Numerical Analysis for Reactions of TEOS and SiO2 in Plasma Enhanced CVD / TEOSを用いたSiO2 PECVD反応モデルの構築と解析
    HU, LI ; Higuchi, Hisashi ; et al.
    2018
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    CVD法により合成したMoS2膜の水素プラズマ処理とS/Mo比の依存性
    Dependence of Microwave Hydrogen Plasma Treatement on S/Mo Ratio of MoS2 Film Grown by Chemical Vapor Deposition
    2018
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Synthesis property of diamond by water vapor added microwave hydrogen plasma induced chemical transport / 水蒸気添加マイクロ波水素プラズマ化学輸送法によるダイヤモンドの合成特性
    Togo, Atsuhisa ; Kakiuchi, Hiroaki ; et al.
    2021
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Study on the atmospheric-pressure plasma synthesis of high hardness diamond-like carbon films / 大気圧プラズマ合成によるダイヤモンド状炭素膜の高硬度化の研究
    Mitamura, Hirotaka ; Arafune, Hiroyuki ; et al.
    2021
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Local synthesis of DLC thin films by atmospheric pressure μ plasma jet. / 大気圧マイクロプラズマジェットによるDLC薄膜の局所合成
    Yoshiki, Hiroyuki ; Nishimura, Ryota ; et al.
    2019
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Study on plasma-enhanced chemical vapor deposition of DLC thin films at atmospheric pressure / 大気圧におけるDLC薄膜のプラズマ化学気相成長の研究
    Yoshiki, Hiroyuki ; Nishimura, Ryota ; et al.
    2020
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Preparation of hydrogen embrittlement resistance thin films by plasma process and their properties IV / プラズマプロセスによる水素脆性防止膜の作製と評価IV
    Kawasaki, Hiroharu ; Nishiguchi, Hiroshi ; et al.
    2021
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Low-temperature Formation of High-Mobility IGZO Thin Film Transistors using Reactive Plasma Processes (III) / 反応性プラズマプロセスを用いた高移動度IGZO薄膜トランジスタの低温形成(III)
    Ebe, Akinori ; Uchida, Giichiro ; et al.
    2021
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    HC-PECVD成膜されたSiO2薄膜の特性 / The Characteristics of SiO2 Thin Films Coated with HC-PECVD
    Yoda, Hidehiko ; Otani, Tsuyoshi ; et al.
    2021
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Influence of gas pressure for oriented AlN film growth by magnetic mirror-type magnetron cathode / 磁気ミラー型マグネトロンカソードを用いた窒化アルミニウム成膜の配向性に対するガス圧力の影響
    Uehara, Masato ; Motomura, Taisei ; et al.
    2021
    academicJournal
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