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    Defect Analyses Using TEM of a-In2O3 Grown by Mist CVD on a-Al2O3 Substrate / TEMによるMist CVD法 (0001)α-Al2O3基板上α-In2O3の欠陥解析
    Ohno, Soichiro ; Takahashi, Subaru ; et al.
    2021
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    HClを用いたSiC CVD成長におけるステップ端の水素被覆の理論研究 / Study of Adsorption of H on Stepped SiC Surface during CVD using HCl
    Oshiyama, Atsushi ; Shiraishi, Kenji ; et al.
    2021
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Preparation and characterization of Iridium films by thermal CVD method on Molybdenum crucibles / 熱CVD法によるモリブデン坩堝上へのイリジウム成膜とその評価
    Yamaji, Akihiro ; Yoshikawa, Akira ; et al.
    2020
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Preparation and characterization of Iridium films by the thermal CVD method on metal substrates / 熱CVD法による金属基板上へのイリジウム成膜とその評価
    Yamaji, Akihiro ; Yoshikawa, Akira ; et al.
    2019
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    HCl環境下でのSiC CVD成長における気相反応と表面構造の予測 / Prediction of gas phase reactions and surface structures under the CVD process of SiC with HCl gas
    Mizushima, Ichiro ; Shiraishi, Kenji ; et al.
    2020
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Growth and coalescence of grains during the CVD of h-BN thin films / 六方晶窒化ホウ素薄膜のCVD成長におけるグレイン成長と結合
    Kominami, Hiroko ; Hara, Kazuhiko ; et al.
    2019
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  7. Detailansicht für Treffer 7 öffnen
    The study on the atmospheric-pressure CVD process of GaN films using Ga Vapor as a Ga source / 原料にGa蒸気を用いるGaN膜の常圧CVDプロセスの検討
    Kominami, Hiroko ; Hara, Kazuhiko ; et al.
    2019
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    CVD growth of BN thin films by alternate gas supply / 原料ガス交互供給によるBN薄膜のCVD成長機構
    Yamada, Hisashi ; Shimizu, Mitsuaki ; et al.
    2020
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Growth of h-BN thin films on Si (111) substrates by low-pressure CVD / 減圧化学気相法を用いたSi (111)基板上への六方晶窒化ホウ素薄膜成長
    Kominami, Hiroko ; Hara, Kazuhiko ; et al.
    2019
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    4H-SiCトレンチのCVD埋戻し成長の高速化 / Growth-rate enhancement for 4H-SiC CVD trench filling
    Okumura, Hajime ; Mochizuki, Kazuhiro ; et al.
    2019
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Improvement of crystallinity of ZnS epitaxial layer on sapphire substrate by mist-CVD / ミストCVD法によるサファイア基板上ZnSエピタキシャル層の結晶性向上
    Tanoue, Hironobu ; Okita, Koshi ; et al.
    2017
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    50μm 4H-SiCトレンチのCVD埋戻し成長の検討 / A study of the CVD growth condition for filling 50-μm 4H-SiC deep trench
    Nagata, Akiyo ; Okumura, Hajime ; et al.
    2018
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Comparison of Al-adatom Concentrations near Step-edges during CVD of SiC on Si- and C-faces / Si面及びC面上SiC CVDにおけるステップ端近傍Al表面濃度の比較
    Mochizuki, Kazuhiro ; Mishima, Tomoyoshi ; et al.
    2021
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Evaluation of amount of Interfacial Oxidation during Thermal Annealing of TEOS - CVD - SiO2 Film / TEOS-CVD-SiO2膜の熱処理に伴う界面酸化膜の評価
    Kawamura, Hiroaki ; Yamabe, Kikuo ; et al.
    2017
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Multi-physics simulations of high temperature CVD processes of SiC / マルチフィジックスシミュレーションに基づくSiCガス成長の研究
    Makino, Emi ; Yoshimatsu, Katsunori ; et al.
    2018
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Prediction of vapor phase reactions and surface reconstruction structures in the CVD process of SiC / SiCガス成長における気相反応と表面再構成構造の予測
    Makino, Emi ; Shiraishi, Kenji ; et al.
    2018
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Growth of hexagonal boron nitride thin films on c-plane sapphire substrates by low pressure chemical vapor deposition using a cold-wall CVD-reactor / コールドウォール反応管を用いた減圧化学気相法による c 面サファイア基板への六方晶窒化ホウ素薄膜の成長
    Kominami, Hiroko ; Masuda, Katsumi ; et al.
    2021
    academicJournal
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Substrate Effect on Insulating Characteristics of TEOS - CVD - SiO2 Film / TEOS-CVD-SiO2膜の絶縁特性の基板効果
    Kawamura, Hiroaki ; Maeda, Kanta ; et al.
    2017
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    4H-SiCトレンチのCVD埋戻し成長における最適成長条件の考察
    Investigation on the optimal growth region for 4H-SiC CVD trench filling
    2017
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Epitaxial growth of nonpolar ZnS on sapphire substrate by mist chemical vapor deposition / ミストCVD法によるサファイア基板上非極性面ZnSのエピタキシャル成長
    Tanoue, Hironobu ; Okita, Koshi ; et al.
    2017
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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