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    Growth of silicon nitride by nitridation of amorphous silicon at low temperature in hot-wire CVD.
    Rai, Dharmendra Kumar ; Solanki, Chetan Singh ; et al.
    In: Materials Science in Semiconductor Processing, Jg. 67 (2017-08-15), S. 46-54
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Mass spectrometric study of gas-phase chemistry in the hot-wire CVD processes of SiH4/NH3 mixtures
    Shi, Y.J. ; Eustergerling, B.D. ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 516 (2008-01-15), Heft 5, S. 506-510
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    H2 dilution effect in the Cat-CVD processes of the SiH4/NH3 system
    Ansari, S.G. ; Umemoto, Hironobu ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 501 (2006-04-20), Heft 1/2, S. 31-34
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    High rate deposition of silicon nitride films by APCVD
    Otani, Tsuyoshi ; Hirata, Masahiro
    In: Thin Solid Films, Jg. 442 (2003-10-01), Heft 1/2, S. 44-47
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    Development of silicon nitride dots for nanocrystal memory cells.
    Wan, Y. M. ; Buffet, N. ; et al.
    In: Solid-State Electronics, Jg. 48 (2004-09-01), Heft 9, S. 1519-1524
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Silane Decomposition on Cu Interconnects Inhibited by Ammonia.
    Ryan, E. Todd ; Molis, Steven ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 157 (2010), Heft 1, S. H78- (3S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  7. Detailansicht für Treffer 7 öffnen
    Elimination of the weak inversion hump in Si3N4/InGaAs (001) gate stacks using an in situ NH3 pre-treatment.
    Krylov, Igor ; Gavrilov, Arkady ; et al.
    In: Applied Physics Letters, Jg. 99 (2011-11-14), Heft 20, S. 203504-203504
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
    Wie komme ich dran?
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