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    The protective effect of thin amorphous hydrogenated carbon a-C:H films during metallisation of metal-carbon-oxide-silicon (MCOS) diodes
    BALACHOVA, O. V ; BRAGA, E. S
    In: Microelectronics journal, Jg. 34 (2003), Heft 9, S. 877-880
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Some optical properties of amorphous hydrogenated carbon thin films prepared by rf plasma deposition using methane
    ALVES, Marco A. R ; ROSSETTO, Jonatas F ; et al.
    In: Microelectronics journal, Jg. 32 (2001), Heft 9, S. 783-786
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Permittivity of amorphous hydrogenated carbon (a-C:H) films as a function of thermal annealing
    BALACHOVA, O. V ; SWART, J. W ; et al.
    In: Microelectronics journal, Jg. 32 (2001), Heft 8, S. 673-678
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    CF4 plasma etching of materials used in microelectronics manufacturing
    BALACHOVA, O. V ; ALVES, M. A. R ; et al.
    In: Microelectronics journal, Jg. 31 (2000), Heft 3, S. 213-215
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
xl 1200 - 1366
xxl 1366 -