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    Non-melt Laser Thermal Annealing of Shallow Boron Implantation for Back Surface Passivation of Backside-illuminated CMOS Image Sensors : Amorphous and polycrystalline thin-film silicon science and technology
    Ali-Guerry, Z.A.F. ; Huet, K. ; et al.
    In: MATERIALS RESEARCH SOCIETY SYMPOSIUM PROCEEDINGS, Jg. 1321 (2011), S. 209-216
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Image Sensors Based on Thin-Film on CMOS Technology: Additional Leakage Currents due to Vertical Integration of the a-Si:H Diodes : Amorphous and polycrystalline thin-film silicon science and technology
    Miazza, C. ; Wyrsch, N. ; et al.
    In: MATERIALS RESEARCH SOCIETY SYMPOSIUM PROCEEDINGS, Jg. 910 (2007), S. 409-414
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Performance Analysis of a-Si:H Detectors Deposited on CMOS Chips : Amorphous and nanocrystalline silicon-based films; Amorphous and nanocrystalline silicon science and technology--2004: symposium held April 13-16, 2004, San Francisco, California, U.S.A.
    Miazza, C. ; Dunand, S. ; et al.
    In: MATERIALS RESEARCH SOCIETY SYMPOSIUM PROCEEDINGS, Jg. 808 (2004), S. 513-520
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
xl 1200 - 1366
xxl 1366 -