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    Wax-assisted crack-free transfer of monolayer CVD graphene: Extending from standalone to supported copper substrates
    Qi, Pengwei ; Liu, Zhongfan ; et al.
    In: Applied Surface Science, Jg. 493 (2019-11-01), S. 81-86
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    Microstructure and mechanical properties of CVD TiN/TiBN multilayer coatings
    Tkadletz, Michael ; Kainz, Christina ; et al.
    In: Surface and Coatings Technology, Jg. 370 (2019-07-01), S. 311-319
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    Influence of Al-Si-N interlayer on residual stress of CVD diamond coatings
    Gaydaychuk, A.V. ; Zenkin, S. ; et al.
    In: Surface and Coatings Technology, Jg. 357 (2019), S. 348-352
    Online unknown
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    Low Temperature CVD of Thin, Amorphous Boron-Carbon Films for Neutron Detectors
    Henry, Anne ; Jensen, Jens ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 18 (2012-07-19), S. 221-224
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    The role of substrate on the growth of 2D heterostructures by CVD
    Taís Orestes Feijó ; Radtke, Cláudio ; et al.
    In: Applied Surface Science, Jg. 539 (2021-02-01), S. 148226-148226
    Online unknown
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    Microstructure, mechanical properties and cutting performances of TiSiCN super-hard nanocomposite coatings deposited using CVD method under the guidance of thermodynamic calculations
    Wang, Shaoqing ; Qiu, Lianchang ; et al.
    In: Surface and Coatings Technology, Jg. 378 (2019-11-01), S. 124956-124956
    Online unknown
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    Silicon Oxycarbide Films Produced by Remote Microwave Hydrogen Plasma CVD using a Tetramethyldisiloxane Precursor: Growth Kinetics, Structure, Surface Morphology, and Properties
    Walkiewicz-Pietrzykowska, Agnieszka ; Wrobel, Aleksander M. ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 21 (2015-11-17), S. 307-318
    Online unknown
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    Influence of amorphous ceramic interlayers on tribological properties of CVD diamond films
    Cui, Yu-xiao ; Sun, Fanghong ; et al.
    In: Applied Surface Science, Jg. 313 (2014-09-01), S. 918-925
    Online unknown
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    Synthesis of diameter controlled multiwall carbon nanotubes by microwave plasma-CVD on low-temperature and chemically processed Fe nanoparticle catalysts
    Roy, Ajay ; Das, Debajyoti
    In: Applied Surface Science, Jg. 515 (2020-06-01), S. 146043-146043
    Online unknown
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  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    a-SiC:H Films by Remote Hydrogen Microwave Plasma CVD From Ethylsilane Precursors**
    Glebocki, Bartosz ; Wrobel, Aleksander M. ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 19 (2013-08-07), S. 242-250
    Online unknown
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  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Effect of incorporation of deuterium on vacancy-type defects of a-C:H films prepared by plasma CVD
    Uedono, Akira ; Hirakuri, Kenji ; et al.
    In: Applied Surface Science, Jg. 330 (2015-03-01), S. 142-147
    Online unknown
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  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Characterization of silicon nitride thin films deposited by hot-wire CVD at low gas flow rates
    Muller, T.F.G. ; Oliphant, C.J. ; et al.
    In: Applied Surface Science, Jg. 285 (2013-11-01), S. 440-449
    Online unknown
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  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Properties of Amorphous Hydrogenated Silicon Carbide (a-SiC:H) Films Formed by Remote Hydrogen Microwave Plasma CVD From a Triethylsilane Precursor: Part 2
    Wrobel, Aleksander M. ; Walkiewicz-Pietrzykowska, Agnieszka ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 15 (2009-03-01), S. 47-52
    Online unknown
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    The Influence of In/Cu Ratio on Electrical Properties of CuO:In Thin Films Prepared by Plasma-Enhanced CVD
    Hao, Y. ; Gong, Hao
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 14 (2008-02-01), S. 9-13
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    Highly Dispersed MoO3/Al2O3 Shell-Core Composites Synthesized by CVD of Mo(CO)6 under Atmospheric Pressure
    Shi, Guojun ; Miguel Dario Sanchez ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 17 (2011-05-26), S. 162-169
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    Hf1−xSixOy dielectric films deposited by UV-photo-induced chemical vapour deposition (UV-CVD)
    Wu, Jie ; Zhang, J.-Y. ; et al.
    In: Applied Surface Science, Jg. 253 (2007-07-01), S. 7869-7873
    Online unknown
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Amorphous hydrogenated carbon coatings on microrouters by ECR-CVD system
    Guo, C.T.
    In: Surface and Coatings Technology, Jg. 201 (2007-05-01), S. 7122-7129
    Online unknown
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Understanding the CVD process of (Si)–B–C ceramics through FTIR spectroscopy gas phase analysis
    Chollon, Georges ; Langlais, Francis ; et al.
    In: Surface and Coatings Technology, Jg. 201 (2007-05-01), S. 7273-7285
    Online unknown
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Influence of the source gas ratio on the hydrogen and deuterium content of a-C:H and a-C:D films: Plasma-enhanced CVD with CH4/H2, CH4/D2, CD4/H2 and CD4/D2
    Niibe, Masahito ; Suzuki, Tsuneo ; et al.
    In: Applied Surface Science, Jg. 265 (2013), S. 750-757
    Online unknown
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  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    The optoelectronic properties of silicon films deposited by inductively coupled plasma CVD
    Li, Fei ; He, Deyan ; et al.
    In: Applied Surface Science, Jg. 257 (2010-11-01), S. 817-822
    Online unknown
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