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    Improved Magnetic Sensitivity of CMOS Vertical Hall Device by Using Partial Implantation Technique
    Huang, Haiyun ; Wang, Dejun ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 60 (2014-02-27), S. 45-50
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    A Robust Shallow Trench Isolation High Density Plasma Chemical Vapor Deposition Void Free Process for 0.13μm CMOS Technology
    Bian, Allen ; Lin, Paul-Chang ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 34 (2011-03-21), S. 743-748
    Online unknown
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    Correlation of Local Strain in a TEM Sample and in the Bulk for a Recessed SiGe CMOS Structure
    Chopra, Saurabh ; Öztürk, Mehmet C. ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 6 (2007-04-27), S. 23-30
    Online unknown
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    Crystalline Rare-Earth Oxides as High-k Materials for Future CMOS Technologies
    H. Joerg Osten ; Bugiel, Eberhard ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 11 (2007-09-28), S. 287-297
    Online unknown
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    Monolithic III-V/Si Integration
    Lubyshev, Dmitri ; Urtega, M. ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 16 (2008-10-03), S. 1015-1020
    Online unknown
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    Optimization of Resist Ash Processes on Si0.45Ge0.55 Substrates for Post Extension-Halo Ion Implantation
    Tsvetanova, Diana ; Mannaert, Geert ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 41 (2011-10-04), S. 283-291
    Online unknown
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    (Invited) Chemisorption Reaction Mechanisms for Atomic Layer Deposition of High-k Oxides on High Mobility Channels
    Sioncke, Sonja ; S. Van Elshocht ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 33 (2010-10-01), S. 343-353
    Online unknown
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    Improvement of Ferroelectricity and Fatigue Property of Thicker HfxZr1−XO2/ZrO2 Bi-layer
    Yong Chan Jung ; Nabatame, Toshihide ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 98 (2020-09-08), S. 63-70
    Online unknown
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    Plasma Surface Preparation of III-V Materials: Quasi In-Situ XPS Measurements and Integration Guidelines
    Licitra, Christophe ; Coudurier, N. ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 92 (2019-07-03), S. 73-83
    Online unknown
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    Composition and Strain Evolution of Undoped Si0.8Ge0.2 Layers Submitted to UV-Nanosecond Laser Annealing
    Grenier, Adeline ; Barnes, Jean-Paul ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 86 (2018-07-20), S. 29-39
    Online unknown
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    Evaluation of Acetylcholine Release and Hold Electrochemical Device by CCD Type Ion Image Sensor
    Sawada, Kazuaki ; Kato, Ryo ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 75 (2016-08-16), S. 209-215
    Online unknown
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  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Nanoscale Potential Fluctuation in Non-Stoichiometric Hafnium Suboxides
    Vladimir Sh Aliev ; Kruchinin, Vladimir N. ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 69 (2015-09-08), S. 237-241
    Online unknown
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    Study of Y2O3 Thin Film Prepared by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition
    Gu Young Cho ; Yoon Ho Lee ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 64 (2014-08-13), S. 15-21
    Online unknown
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    Cyclic Plasma Treatment during ALD Hf1-XZrxO2 Deposition
    Tapily, Kandabara ; Clark, Robert D. ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 61 (2014-03-24), S. 41-53
    Online unknown
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    Electrical Improvement of MIS Capacitor with HfAlOx Gate Dielectrics Treated by Dual Plasma Treatment
    Huang, Bo-Wen ; Chang, Po-Chun ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 45 (2012-04-27), S. 211-218
    Online unknown
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Direct LaLuO3/Ge Gate Stack Formation by Interface Layer Scavenging and Subsequent Low Temperature O2 Annealing
    Tabata, Toshiyuki ; Choonghyun, Lee ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 33 (2010-10-01), S. 375-382
    Online unknown
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Low Temperature Epitaxy of Si and SiGe Using Disilane Based Chemistry for Electronic Purposes
    Damlencourt, Jean-Francois
    In: ECS Transactions, Jg. 28 (2010-04-16), S. 343-348
    Online unknown
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    (Invited) Oxidation, Diffusion and Desorption in a Ge/GeO2 System
    Choonghyun, Lee ; Nishimura, Tomonori ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 28 (2010-04-16), S. 171-180
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Hafnium Silicate Gate Insulators in Field Effect Sensors Used to Detect DNA Hybridization
    Liu, Jian ; Jiang, Weihong ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 16 (2008-10-03), S. 441-450
    Online unknown
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    A Study of Electrical Properties of SiGe Film with Various Oxidation Conditions
    Lin, Jian-Hong ; Chang, Kow-Ming ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 11 (2008-04-21), S. 91-100
    Online unknown
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