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    (Invited) Comprehensive Assessment of Oxide Memristors As Post-CMOS Memory and Logic Devices
    Marinella, Matthew J. ; Gao, Xujiao ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 72 (2016-04-25), S. 49-58
    Online unknown
    Zugriff:
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    Wie komme ich dran?
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    (Invited) Challenges on Surface Conditioning in 3D Device Architectures: Triple-Gate FinFETs, Gate-All-Around Lateral and Vertical Nanowire FETs
    Vecchio, E. ; Loo, Roger ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 80 (2017-08-15), S. 3-20
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    An Industrial 650V GaN DHEMT Cascode Technology
    Bauwens, Filip ; Liu, Charlie ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 64 (2014-08-08), S. 171-183
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    (Invited) Ferroelectric Hafnium Oxide Based Materials and Devices: Assessment of Current Status and Future Prospects
    Müller, Johannes ; Mikolajick, Thomas ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 64 (2014-08-09), S. 159-168
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
xl 1200 - 1366
xxl 1366 -