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    Assessment of the critical dimension prediction accuracy for the lumped parameter model for resist lithography
    FUARD, D ; SCHIAVONE, P
    In: Proceedings of the 29th Conference on Micro and Nano Engineering, September 22-25, 2003, Cambridge, United Kingdom, Jg. 73-74 (2004), S. 53-58
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    UV curing effects on mechanical and electrical performances of a PECVD non-porogen porous SiOC:H films (in k [2.2-2.4] range) for 45 nm node and below
    CHAPELON, L. L ; VITIELLO, J ; et al.
    In: Microelectronic engineering, Jg. 83 (2006), Heft 11-12, S. 2136-2141
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    New techniques to characterize properties of advanced dielectric barriers for sub-65 nm technology node
    VITIELLO, J ; DUCOTE, V ; et al.
    In: Microelectronic engineering, Jg. 83 (2006), Heft 11-12, S. 2130-2135
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Measuring the Young's modulus of ultralow-k materials with the non destructive picosecond ultrasonic method
    CHAPELON, L. L ; VITIELLO, J ; et al.
    In: Microelectronic engineering, Jg. 83 (2006), Heft 11-12, S. 2346-2350
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Correlation between electromigration and Cu-contact angle after de-wetting
    VANYPRE, T ; CORDEAU, M ; et al.
    In: Microelectronic engineering, Jg. 83 (2006), Heft 11-12, S. 2373-2376
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    LaAlO3 films prepared by MBE on LaAlO3(001) and Si(001) substrates
    GAILLARD, S ; ROZIER, Y ; et al.
    In: Infos 2005: Proceedings of the 14th Biennal Conference on Insulating Films on Semiconductors, June 22-24, Jg. 80 (2005), S. 146-149
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Impact of introducing CuSiN self-aligned barriers in advanced copper interconnects
    CHHUN, S ; GOSSET, L. G ; et al.
    In: Proceedings of the ninth european workshop on materials for advanced metallization 2005, 6-9 March 2005, Dresden, Germany, Jg. 82 (2005), Heft 3-4, S. 587-593
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Impact of dielectric stack and interface adhesion on mechanical properties of porous ultra low-k
    VITIELLO, Julien ; FUCHSMANN, Arno ; et al.
    In: Proceedings of the ninth european workshop on materials for advanced metallization 2005, 6-9 March 2005, Dresden, Germany, Jg. 82 (2005), Heft 3-4, S. 422-426
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Surface preparation and post thermal treatment effects on interface properties of thin Al2O3 films deposited by ALD
    CHANG, Y ; DUCROQUET, F ; et al.
    In: INFOS 2003 Proceedings of the 13th Biennial Conference on Insulating Films on Semiconductors: June 18-20, Jg. 72 (2004), Heft 1-4, S. 326-331
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Preferential nucleation of silicon nano-crystals on electron beam exposed SiO2 surfaces
    MAZEN, F ; MOLLARD, L ; et al.
    In: Proceedings of the 29th Conference on Micro and Nano Engineering, September 22-25, 2003, Cambridge, United Kingdom, Jg. 73-74 (2004), S. 632-638
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Charge dynamics of silicon nanocrystals in MOS capacitors
    FERRATON, S ; MONTES, L ; et al.
    In: Proceedings of the 29th Conference on Micro and Nano Engineering, September 22-25, 2003, Cambridge, United Kingdom, Jg. 73-74 (2004), S. 741-745
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Evidence of room temperature charging effects of silicon nanocrystals inside metal-oxide-semiconductor capacitors using feedback charge measurements
    FERRATON, S ; MONTES, L ; et al.
    In: Proceedings of the 28th International Conference on Micro- and Nano-Engineering, September 16-19, 2002, Lugano, Switzerland, Jg. 67-68 (2003), S. 858-864
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Nucleation control of CVD growth silicon nanocrystals for quantum devices
    BARON, T ; MAZEN, F ; et al.
    In: Micro- and nano- engineering 2001, MNE: proceedings of the 27th international conference on micro- and nano-engineering, September 16-19, Jg. 61-62 (2002), S. 511-515
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Characterization of ultra-thin SiO2 by capacitance-voltage and charge pumping measurements
    MILITARU, L ; PONCET, A ; et al.
    In: Microelectronic engineering, Jg. 81 (2005), Heft 1, S. 59-65
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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