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    The effect of LaB6 cathode shape on its performance in a JBX 5DII electron beam lithography system
    TENNANT, D. M ; SWANSON, L. W
    In: Journal of vacuum science and technology. B. Microelectronics processing and phenomena, Jg. 7 (1989), Heft 1, S. 93-97
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    REACTIVE POWER COMPENSATION BY A LINEAR PROGRAMMING TECHNIQUE
    CHOI, SS ; DEVOTTA, JBX ; et al.
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    OPTIMAL REACTIVE COMPENSATION IN POWER SYSTEMS
    CHOI, SS ; DEVOTTA, JBX ; et al.
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    DIGITAL TIME-CONSTANT REGULATOR FOR MICROMACHINES
    DEVOTTA, JBX ; SRINIVASAN, V
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    The application of optical resolution enhancement technology & E-beam direct writing technology in micro-fabrication
    YULIN, QIU ; BAOQIN, CHEN ; et al.
    In: Advanced microlithography technologies (Beijing, 8-10 November 2004), 2005, S. 353-364
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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