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    Combinatorial atmospheric pressure chemical vapour deposition (cAPCVD) of a mixed vanadium oxide and vanadium oxynitride thin film
    KAFIZAS, Andreas ; HYETT, Geoffrey ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 19 (2009), Heft 10, S. 1399-1408
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    Chromium oxyselenide solid solutions from the atmospheric pressure chemical vapour deposition of chromyl chloride and diethylselenide
    BOSCHER, Nicolas D ; CARMALT, Claire J ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 18 (2008), Heft 14, S. 1667-1673
    Online academicJournal
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    Doped and un-doped vanadium dioxide thin films prepared by atmospheric pressure chemical vapour deposition from vanadyl acetylacetonate and tungsten hexachloride : the effects of thickness and crystallographic orientation on thermochromic properties
    BINIONS, Russell ; HYETT, Geoffrey ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 17 (2007), Heft 44, S. 4652-4660
    Online academicJournal
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    Controlled growth of single-walled carbon nanotubes at atmospheric pressure by catalytic decomposition of ethanol and an efficient purification method
    YU, WANG ; LIU, Yun-Qi ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 17 (2007), Heft 4, S. 357-363
    Online academicJournal
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    Chemical vapour deposition of group Vb metal phosphide thin films
    BLACKMAN, C. S ; CARMALT, C. J ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 13 (2003), Heft 8, S. 1930-1935
    Online academicJournal
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    Atmospheric pressure chemical vapour deposition of titanium dioxide coatings on glass
    O'NEILL, Shane A ; PARKIN, Ivan P ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 13 (2003), Heft 1, S. 56-60
    Online academicJournal
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    The dual source APCVD of titanium nitride thin films from reaction of hexamethyldisilazane and titanium tetrachloride
    NEWPORT, Anne ; CARMALT, Claire J ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 12 (2002), Heft 6, S. 1906-1909
    Online academicJournal
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    Intelligent window coatings: atmospheric pressure chemical vapour deposition of vanadium oxides
    MANNING, Troy D ; PARKIN, Ivan P ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 12 (2002), Heft 10, S. 2936-2939
    Online academicJournal
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    Growth of InN pillar crystal films by means of atmospheric pressure halide chemical vapor deposition
    TAKAHASHI, Naoyuki ; NIWA, Arei ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 12 (2002), Heft 5, S. 1573-1576
    Online academicJournal
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    Atmospheric pressure chemical vapour deposition of vanadium nitride and oxynitride films on glass from reaction of VCl4 with NH3
    PARKIN, Ivan P ; ELWIN, Gareth S
    In: Journal of material chemistry, Jg. 11 (2001), Heft 12, S. 3120-3124
    Online academicJournal
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    Deposition of tin sulfide thin films from novel, volatile (fluoroalkythiolato)tin(IV) precursors
    HIBBERT, Tom G ; MAHON, Mary F ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 11 (2001), Heft 2, S. 469-473
    Online academicJournal
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    Atmospheric pressure chemical vapour deposition of tin(II) sulfide films on glass substrates from Bun3SnO2CCF3 with hydrogen sulfide
    PRICE, L. S ; PARKIN, I. P ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 10 (2000), Heft 2, S. 527-530
    Online academicJournal
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    Atmospheric pressure chemical vapour deposition of vanadium(v) oxide films on glass substrates from reactions of VOCl3 and VCl4 with water
    FIELD, M. N ; PARKIN, I. P
    In: Journal of material chemistry, Jg. 10 (2000), Heft 8, S. 1863-1866
    Online academicJournal
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    A study of the mechanism of the reaction of trimethylgallium with hydrogen selenide
    MAUNG, N ; GUANGHAN, FAN ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 9 (1999), Heft 10, S. 2489-2494
    Online academicJournal
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    Dual-source chemical vapour deposition of titanium sulfide thin films from tetrakisdimethylamidotitanium and sulfur precursors
    PETERS, Emily S ; CARMALT, Claire J ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 14 (2004), Heft 23, S. 3474-3477
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    Atmospheric pressure chemical vapour deposition of VO2 and VO2/TiO2 films from the reaction of VOCl3, TiCl4 and water
    QURESHI, Uzma ; MANNING, Troy D ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 14 (2004), Heft 7, S. 1190-1194
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    Atmospheric pressure chemical vapor deposition of tin nitride thin films using a halide source
    TAKAHASHI, Naoyuki ; TERADA, Kazuhiko ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 10 (2000), Heft 12, S. 2835-2837
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    Preparation of pyrite thin films by atmospheric pressure chemical vapor deposition using FeCl3 and CH3CSNH2
    TAKAHASHI, Naoyuki ; SAWADA, Takehiko ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 10 (2000), Heft 10, S. 2346-2348
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    Catalyst-enhanced vapor-phase epitaxy of quartz thin films under atmospheric pressure
    TAKAHASHI, Naoyuki ; HOSHOGI, Masayuki ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 12 (2002), Heft 3, S. 719-722
    Online academicJournal
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    Dual source atmospheric pressure chemical vapour deposition of TiP films on glass using TiCl4 and PH2But
    BLACKMAN, C ; CARMALT, C. J ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 11 (2001), Heft 10, S. 2408-2409
    Online academicJournal
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