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    The effect of LaB6 cathode shape on its performance in a JBX 5DII electron beam lithography system
    Swanson, L. W. ; Tennant, D. M.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures, Jg. 7 (1989), S. 93-93
    Online unknown
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    Wie komme ich dran?
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    COMPARISON OF JEJUNAL AND ILEAL SURVEILLANCE BIOPSIES IN A PORCINE MODEL OF INTESTINAL TRANSPLANTATION1
    Benedetti, Enrico ; Holman, Dawn M. ; et al.
    In: Transplantation, Jg. 68 (1999-07-01), S. 188-191
    Online unknown
    Zugriff:
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    Wie komme ich dran?
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    The application of optical resolution enhancement technology and e-beam direct writing technology in microfabrication
    Tang, Yueke ; Ren, Liming ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2005-01-27
    Online unknown
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    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Electron-beam and x-ray lithographic characteristics of the optical resist ARCH
    Novembre, Anthony E. ; Bolan, K. ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 1995-05-19
    Online unknown
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  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    Low temperature ZEP-520A development process for enhanced critical dimension realization in reactive ion etch etched polysilicon
    Bunday, B. ; Myhajlenko, S. ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures, Jg. 25 (2007), S. 102-102
    Online unknown
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    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Simple technique for measuring grating periods made using e-beam lithography
    Tennant, D. M. ; Feder, K. S.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures, Jg. 16 (1998-07-01), S. 2113-2113
    Online unknown
    Zugriff:
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    Wie komme ich dran?
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sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
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