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    T8-hydridospherosiloxanes : novel precursors for SiO2 thin films. I: Precursor characterization and preliminary CVD
    NYMAN, M. D ; DESU, S. B ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 5 (1993), Heft 11, S. 1636-1640
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
    Wie komme ich dran?
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    Copper CVD precursors containing alkyl 3-oxobutanoate ligands
    HWANG, S ; CHOI, H ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 8 (1996), Heft 5, S. 981-983
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Single-step preparation of oxide-oxide nanocomposites: Chemical vapor synthesis of LnAlO3/Al2O3 (Ln = Pr, Nd) thin films
    VEITH, Michael ; MATHUR, Sanjay ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 13 (2001), Heft 11, S. 4041-4052
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Atomic layer deposition and chemical vapor deposition of tantalum oxide by successive and simultaneous pulsing of tantalum ethoxide and tantalum chloride
    KUKLI, K ; RITALA, M ; et al.
    In: Special Issue on Organic-Inorganic Nanocomposite Materials, Jg. 12 (2000), Heft 7, S. 1914-1920
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Low temperature photochemical vapor deposition of SiO2 using 172 nm Xe2* excimer lamp radiation with three oxidant chemistries: O2, H2O/O2, and H2O2
    PFEIFER ROLAND, Randa ; BOLLE, Matthias ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 13 (2001), Heft 8, S. 2493-2500
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Influence of hydrogen incorporation on the structure and stoichiometry of chemically vapor deposited silica films
    OJEDA, F ; MONTERO, I ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 13 (2001), Heft 11, S. 3986-3992
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Composition and microstructure of cobalt oxide thin films obtained from a novel cobalt(II) precursor by chemical vapor deposition
    BARRECA, Davide ; MASSIGNAN, Cristian ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 13 (2001), Heft 2, S. 588-593
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Chemical vapor deposition of indium selenide and gallium selenide thin films from mixed alkyl/dialkylselenophosphorylamides
    PARK, Jin-Ho ; AFZAAL, Mohammad ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 15 (2003), Heft 22, S. 4205-4210
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Aluminum oxide and chromium oxide coatings on ceramic fibers via MOCVD
    NABLE, Jun C ; GULBINSKA, Malgorzata K ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 15 (2003), Heft 25, S. 4823-4829
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Synthesis and characterization of liquid MOCVD precursors for thin films of cadmium oxide
    GULINO, Antonino ; DAPPORTO, Paolo ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 14 (2002), Heft 12, S. 4955-4962
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Single-source chemical vapor deposition growth of ZnO thin films using Zn4O(CO2NEt2)6
    PETRELLA, A. J ; DENG, H ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 14 (2002), Heft 10, S. 4339-4342
    academicJournal
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    X-ray reflectivity characterization of ZnO/Al2O3multilayers prepared by atomic layer deposition
    JENSEN, J. M ; OELKERS, A. B ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 14 (2002), Heft 5, S. 2276-2282
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    A study on the development of chemical vapor deposition precursors. 4. Syntheses and characterization of new N-alkoxo-β-ketoiminate complexes of niobium and tantalum
    LIM, Sunkwon ; JOONG CHEOL, LEE ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 14 (2002), Heft 4, S. 1548-1554
    academicJournal
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    A liquid MOCVD precursor for thin films of CdO
    GULINO, Antonino ; DAPPORTO, Paolo ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 14 (2002), Heft 4, S. 1441-1444
    academicJournal
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Synthesis and characterization of novel self-generating liquid MOCVD precursors for thin films of zinc oxide
    GULINO, A ; CASTELLI, F ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 12 (2000), Heft 2, S. 548-554
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Laser-induced deposition of palladium and gas-phase photofragmentation pathways from (2-methylallyl)(1,1,1,5,5,5-hexafluoro-2,4-pentanedionato) palladium
    CHEON, J ; MURAOKA, P ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 12 (2000), Heft 2, S. 511-516
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Thin films of bismuth vanadates with modifiable conduction properties
    BARRECA, D ; DEPERO, L. E ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 11 (1999), Heft 2, S. 255-261
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Liquid delivery MOCVD of niobium-doped Pb(Zr, Ti)O3 using a novel niobium precursor
    CHEN, I.-S ; ROEDER, J. F ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 11 (1999), Heft 2, S. 209-212
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Bis(bis(trimethylsilyl)methyl)tin(IV) chalcogenides as possible precursors for the metal organic chemical vapor deposition of tin(II) selenide and tin(II) telluride films
    CHUPRAKOV, I. S ; DAHMEN, K.-H ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 10 (1998), Heft 11, S. 3467-3470
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Metal-organic chemical vapor deposition of indium selenide thin films
    STOLL, S. L ; BARRON, A. R
    In: Chemistry of materials, Jg. 10 (1998), Heft 2, S. 650-657
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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