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    Reactive magnetron sputtering of CNx films: ion bombardment effects and process characterization using optical emission spectroscopy.
    Vlček, Jaroslav ; Rusňák, Karel ; et al.
    In: Journal of Applied Physics, Jg. 86 (1999-10-01), Heft 7, S. 3646-3654
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    Influence of plasma parameters on the growth and properties of magnetron sputtered CNx thin films.
    Hellgren, Niklas ; Macák, Karol ; et al.
    In: Journal of Applied Physics, Jg. 88 (2000-07-01), Heft 1, S. 524-532
    Online academicJournal
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    Threshold of photoelectron emission from CNx films deposited at room temperature and at 500 °C.
    Sago, Genki ; Li, Wanyan ; et al.
    In: Journal of Applied Physics, Jg. 96 (2004-10-15), Heft 8, S. 4674-4676
    Online academicJournal
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    Structure and spectroscopic properties of C-Ni and CNx-Ni nanocomposite films.
    Kovács, Gy. J. ; Koós, A. ; et al.
    In: Journal of Applied Physics, Jg. 98 (2005-08-01), Heft 3, S. 034313-34313
    Online academicJournal
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    Electrical properties of carbon nitride films on silicon.
    Konofaos, N. ; Evangelou, E. K. ; et al.
    In: Journal of Applied Physics, Jg. 91 (2002-06-15), Heft 12, S. 9915-9918
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    Microstructure and nanomechanical properties of nitrogenated amorphous carbon thin films synthesized by reactive radio frequency sputtering.
    Lu, W. ; Komvopoulos, K.
    In: Journal of Applied Physics, Jg. 85 (1999-03-01), Heft 5, S. 2642-2651
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    Carbon nitride thin films prepared by radio-frequency magnetron sputtering combined with a nitrogen radical beam source.
    Xu, Wentao ; Wang, Li ; et al.
    In: Journal of Applied Physics, Jg. 94 (2003-12-01), Heft 11, S. 7345-7350
    Online academicJournal
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    Growth of fullerene-like carbon nitride thin solid films by reactive magnetron sputtering; role of low-energy ion irradiation in determining microstructure and mechanical properties.
    Neidhardt, J. ; Czigany, Zs ; et al.
    In: Journal of Applied Physics, Jg. 93 (2003-03-01), Heft 5, S. 3002-3015
    Online academicJournal
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    Micro-Raman study of high pressure induced graphite-diamond phase-structural transformation: the role of a nitrogen containing precursor.
    Klyui, N. I. ; Valakh, M. Ya ; et al.
    In: Journal of Applied Physics, Jg. 88 (2000-10-15), Heft 8, S. 4875-4880
    Online academicJournal
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    Formation of carbon nitride films with high N/C ratio by high-pressure radio frequency magnetron sputtering.
    Okada, T. ; Yamada, S. ; et al.
    In: Journal of Applied Physics, Jg. 78 (1995-12-15), S. 7416-7418
    Online academicJournal
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    On the delamination dynamic of sputtered amorphous carbon nitride films.
    Peponas, S. ; Benlahsen, M. ; et al.
    In: Journal of Applied Physics, Jg. 106 (2009-07-01), Heft 1, S. 013525-13525
    Online academicJournal
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    Nitrogen incorporation in carbon nitride films produced by direct and dual ion-beam sputtering.
    Abrasonis, G. ; Gago, R. ; et al.
    In: Journal of Applied Physics, Jg. 98 (2005-10-01), Heft 7, S. 074907-74907
    Online academicJournal
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