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    Deposition of Ru and RuO2 thin films employing dicarbonyl bis-diketonate ruthenium complexes as CVD source reagents
    LAI, Ying-Hui ; CHEN, Yao-Lun ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 13 (2003), Heft 8, S. 1999-2006
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    CVD preparation and characterization of tin dioxide films for electrochemical applications
    YUSTA, F. J ; HITCHMAN, M. L ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 7 (1997), Heft 8, S. 1421-1427
    Online academicJournal
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    Low temperature chemical vapour deposition of ruthenium and ruthenium dioxide on polymer surfaces
    SANKAR, J ; SHAM, T. K ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 9 (1999), Heft 10, S. 2439-2444
    Online academicJournal
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    Deposition of thin films of cobalt oxides by MOCVD
    GULINO, Antonino ; FIORITO, Giuseppe ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 13 (2003), Heft 4, S. 861-865
    Online academicJournal
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    Atmospheric pressure chemical vapour deposition of titanium dioxide coatings on glass
    O'NEILL, Shane A ; PARKIN, Ivan P ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 13 (2003), Heft 1, S. 56-60
    Online academicJournal
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    Aerosol-assisted chemical vapour deposition of silver films from adducts of functionalised silver carboxylates
    EDWARDS, Dennis A ; MAHON, Mary F ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 13 (2003), Heft 3, S. 563-570
    Online academicJournal
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    A metal-organic chemical vapor deposition approach to double-sided Tl2Ba2Ca1Cu2O8 superconducting films on LaAlO3 (100) substrates
    MALANDRINO, Graziella ; BORZI, Anna M ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 12 (2002), Heft 12, S. 3728-3732
    Online academicJournal
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    The dual source APCVD of titanium nitride thin films from reaction of hexamethyldisilazane and titanium tetrachloride
    NEWPORT, Anne ; CARMALT, Claire J ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 12 (2002), Heft 6, S. 1906-1909
    Online academicJournal
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    MOCVD of CeF3 films on Si(100) substrates: synthesis, characterization and luminescence spectroscopy
    LO NIGRO, Raffaella ; MALANDRINO, Graziella ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 12 (2002), Heft 9, S. 2816-2819
    Online academicJournal
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    Growth of InN pillar crystal films by means of atmospheric pressure halide chemical vapor deposition
    TAKAHASHI, Naoyuki ; NIWA, Arei ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 12 (2002), Heft 5, S. 1573-1576
    Online academicJournal
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    Zirconia thin films by atomic layer epitaxy. A comparative study on the use of novel precursors with ozone
    PUTKONEN, Matti ; NIINISTÖ, Lauri
    In: Journal of material chemistry, Jg. 11 (2001), Heft 12, S. 3141-3147
    Online academicJournal
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    The X-ray single crystal structure of [Me2In(acac)]2 and its use as a single-source precursor for the deposition of indium oxide thin films
    PARK, Jin-Ho ; HORLEY, Graeme A ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 11 (2001), Heft 9, S. 2346-2349
    Online academicJournal
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    Surface-controlled growth of LaAlO3 thin films by atomic layer epitaxy
    NIEMINEN, Minna ; SAJAVAARA, Timo ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 11 (2001), Heft 9, S. 2340-2345
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    Atomic layer epitaxy growth of LaGaO3 thin films
    NIEMINEN, Minna ; LEHTO, Sari ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 11 (2001), Heft 12, S. 3148-3153
    Online academicJournal
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    The first single source deposition of tin sulfide coatings on glass: aerosol-assisted chemical vapour deposition using [Sn(SCH2CH2S)2]
    PARKIN, I. P ; PRICE, L. S ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 11 (2001), Heft 5, S. 1486-1490
    Online academicJournal
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    Al2O3 thin films from aluminium dimethylisopropoxide by metal-organic chemical vapour deposition
    BARRECA, D ; BATTISTON, G. A ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 10 (2000), Heft 9, S. 2127-2130
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    Low pressure chemical vapor deposition of fluorine-doped indium oxide films from an indium alkoxide complex
    MIINEA, Liliana A ; HOFFMAN, David M
    In: Journal of material chemistry, Jg. 10 (2000), Heft 10, S. 2392-2395
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    Atmospheric pressure chemical vapour deposition of tin(II) sulfide films on glass substrates from Bun3SnO2CCF3 with hydrogen sulfide
    PRICE, L. S ; PARKIN, I. P ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 10 (2000), Heft 2, S. 527-530
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    Si/C phases from the IR laser-induced decomposition of 1,4-disilabutane
    VOLNINA, E. A ; KUPCIK, J ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 7 (1997), Heft 4, S. 636-640
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    Atmospheric pressure chemical vapor deposition of tin nitride thin films using a halide source
    TAKAHASHI, Naoyuki ; TERADA, Kazuhiko ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 10 (2000), Heft 12, S. 2835-2837
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