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    Fine control of low-temperature CVD epitaxial growth.
    Loup, Virginie ; Hartmann, Jean-Michel ; et al.
    In: Solid State Technology, Jg. 44 (2001-07-01), Heft 7, S. 91-96
    Online academicJournal
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    CVD chamber cleaning.
    Johnson, Andrew D. ; Entley, William R. ; et al.
    In: Solid State Technology, Jg. 43 (2000-12-01), Heft 12, S. 103-108
    Online academicJournal
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    Volltext (PDF)
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    Safety and environmental concerns of CVD copper precursors.
    Zorich, Bob ; Majors, Mary
    In: Solid State Technology, Jg. 41 (1998-09-01), Heft 9, S. 101-104
    Online academicJournal
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    Integrated CVD titanium and titanium nitride processes for sub-0.5-mu metallization.
    Hillman, Joseph ; Foster, Robert
    In: Solid State Technology, Jg. 38 (1995-07-01), Heft 7, S. 147-150
    Online academicJournal
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    Next-generation CVD aluminum precursors pose new handling challenges.
    McGrew, Clark E.
    In: Solid State Technology, Jg. 40 (1997-06-01), Heft 6, S. 193-197
    Online academicJournal
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    Helium reduction at pre-metal sub-atmospheric CVD.
    JAE HEE, KIM
    In: Solid State Technology, Jg. 59 (2016), Heft 1, S. 22-26
    Online academicJournal
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    Volltext (PDF)
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    Trends in void-free pre-metal CVD dielectrics.
    Vassiliev, V. Y. ; Sudijono, J. L. ; et al.
    In: Solid State Technology, Jg. 44 (2001-03-01), Heft 3, S. 129-133
    Online academicJournal
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    Volltext (PDF)
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    Delivering new Liquid Metalorganic Precursors to Epi and CVD.
    WOELK, EGBERT ; LOO, ROGER
    In: Solid State Technology, Jg. 57 (2014-12-01), Heft 8, S. 37-40
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
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    Vapor delivery methods for CVD: An equipment selection guide.
    Sullivan, Laura A. ; Han, Bin
    In: Solid State Technology, Jg. 39 (1996-05-01), Heft 5, S. 91-96
    Online academicJournal
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    Etch and CVD process improvements via heated vacuum throttle valves.
    Goodman, Dan ; Pewsey, Shaun
    In: Solid State Technology, Jg. 43 (2000-12-01), Heft 12, S. 80-82
    Online academicJournal
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    Volltext (PDF)
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    For DRAM and logic: CVD low-k dielectric integration.
    Buchanan, Keith
    In: Solid State Technology, Jg. 45 (2002-06-01), Heft 6, S. 59-62
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
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    CVD Equipment Corp
    In: Solid State Technology, Jg. 44 (2001-03-01), Heft 3, S. 26
    Online serialPeriodical
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    High-k gate deposition: ALD or CVD? Solid State Technology asked executives to comment on the advantages and disadantages of ALD vs. CVD techniques for gate dielectrics.
    In: Solid State Technology, Jg. 47 (2004-05-01), Heft 5, S. 2
    Online serialPeriodical
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    Sekisui and Chemitronics show nonvacuum plasma CVD equipment.
    In: Solid State Technology, Jg. 44 (2001-03-01), Heft 3, S. 48-49
    Online academicJournal
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    Practical in situ FTIR for CVD yields revised TEOS-O...model.
    Burggraaf, Pieter
    In: Solid State Technology, Jg. 43 (2000-03-01), Heft 3, S. 20-21
    Online academicJournal
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    High-performance SiGe pHMOS using reduced-pressure CVD.
    Shim, Kyu-Hwan ; Song, Young-Joo ; et al.
    In: Solid State Technology, Jg. 47 (2004-03-01), Heft 3, S. 51-54
    Online academicJournal
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    High-k gate deposition: ALD or CVD CVD and even PVD are still on the table.
    Colombo, Luigi
    In: Solid State Technology, Jg. 47 (2004-05-01), Heft 5, S. 112-113
    Online academicJournal
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    TI votes for AMAT's Black Diamond CVD low-k; IBM uses SILK.
    Lunday, Christine
    In: Solid State Technology, Jg. 43 (2000-06-01), Heft 6, S. 46-46
    Online academicJournal
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    Hot wire CVD systems for amorphous silicon.
    L.S.
    In: Solid State Technology, Jg. 39 (1996-12-01), Heft 12, S. 36-36
    Online academicJournal
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    High-k gate deposition: ALD or CVD? Solid State Technology asked executives to comment on the advantages and disadantages of ALD vs. CVD techniques for gate dielectrics
    In: Solid State Technology, Jg. 47 (2004-05-01), Heft 5, S. 112-113
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