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    Observations of Aharonov-Bohm Conductance Oscillations in CVD-Grown Graphene Rings at 4K
    Tang, Z. ; Chen, S. ; et al.
    In: IEEE Open Journal of Nanotechnology, Jg. 4 (2023), S. 208-214
    Online academicJournal
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    Highly Stacked GeSn Nanosheets by CVD Epitaxy and Highly Selective Isotropic Dry Etching
    Huang, B. ; Tsai, C. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Electron Devices, Jg. 69 (2022-04-01), Heft 4, S. 2130-2136
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
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  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    Insights Into the Two-Dimensional MoS2 Grown on AlGaN(GaN) Substrates by CVD Method
    Yang, G. ; Ding, Y. ; et al.
    In: IEEE Photonics Journal, Jg. 13 (2021-12-01), Heft 6, S. 1-5
    Online academicJournal
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    Volltext
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Process Optimization and Modeling of the Silicon Growth in Trichlorosilane-Hydrogen Gas Mixture in a Planetary CVD Reactor
    Ramadan, Z. ; Im, I. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 34 (2021-02-01), Heft 1, S. 1-8
    Online academicJournal
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    Low-Temperature ICP-CVD SiNx as Gate Dielectric for GaN-Based MIS-HEMTs
    Dutta, G. ; DasGupta, N. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Electron Devices, Jg. 63 (2016-12-01), Heft 12, S. 4693-4701
    Online academicJournal
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    CVD Grown Cuprous Oxide Thin Film Based High Performance Chemiresistive Ammonia Gas Sensors
    Jha, R.K. ; Singh, V. ; et al.
    In: IEEE Sensors Journal, Jg. 19 (2019-12-15), Heft 24, S. 11759-11766
    Online academicJournal
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  7. Detailansicht für Treffer 7 öffnen
    Electromigration Characteristics and Morphological Evolution of Cu Interconnects on CVD Co and Ru Liners for 10-nm Class VLSI Technology
    Jang, K. ; Lee, S. ; et al.
    In: IEEE Electron Device Letters, Jg. 39 (2018-07-01), Heft 7, S. 1050-1050
    Online academicJournal
    Zugriff:
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  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    X-Ray Detection by Using CVD Single Crystal Diamond Detector
    Tartoni, N. ; Angelone, M. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Nuclear Science, Jg. 56 (2009-06-01), Heft 3, S. 849-852
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
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  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    Influence of Deposition Conditions on Silicon Nanoclusters in Silicon Nitride Films Grown by Laser-Assisted CVD Method
    Tsai, T. C. ; Lou, L. R. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Nanotechnology, Jg. 10 (2011-03-01), Heft 2, S. 197-202
    Online academicJournal
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    Volltext
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  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Rapid Formation of 200 m-long YBCO Coated Conductor by Multi-Stage CVD
    Watanabe, T. ; Kashima, N. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Applied Superconductivity, Jg. 17 (2007-06-01), Heft 2, S. 3386-3389
    Online academicJournal
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  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Oxide HDP-CVD Modeling for Shallow Trench Isolation
    Roussy, A. ; Delachet, L. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 23 (2010-08-01), Heft 3, S. 400-410
    Online academicJournal
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  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Polycrystalline CVD Diamonds for the Beam Calorimeter of the ILC
    Grah, C. ; Afanaciev, K. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Nuclear Science, Jg. 56 (2009-04-01), Heft 2, S. 462-467
    Online academicJournal
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  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Reduction of PFC emissions to the environment through advances in CVD and etch processes
    Johnson, A.D. ; Ridgeway, R.G. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 17 (2004-11-01), Heft 4, S. 491-496
    Online academicJournal
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Ultra-High Mobility in Dielectrically Pinned CVD Graphene
    Nashed, R. ; Pan, C. ; et al.
    In: IEEE Journal of the Electron Devices Society, Jg. 4 (2016-11-01), Heft 6, S. 466-466
    Online academicJournal
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    Full-Wafer Characterization of AlGaN/GaN HEMTs on Free-Standing CVD Diamond Substrates
    Chabak, K. D. ; Gillespie, J. K. ; et al.
    In: IEEE Electron Device Letters, Jg. 31 (2010-02-01), Heft 2, S. 99-101
    Online academicJournal
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Copper thin films on PET prepared at ambient temperature by ECR-CVD
    Ko, Hyungduk ; Jhin, J. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Components and Packaging Technologies, Jg. 28 (2005-12-01), Heft 4, S. 781-784
    Online academicJournal
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Large-Area Graphene Electrodes: Using CVD to facilitate applications in commercial touchscreens, flexible nanoelectronics, and neural interfaces
    Akinwande, D. ; Tao, L. ; et al.
    In: IEEE Nanotechnology Magazine, Jg. 9 (2015-09-01), Heft 3, S. 6-14
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    AlN/GaN Insulated-Gate HFETs Using Cat-CVD SiN
    Higashiwaki, M. ; Mimura, T. ; et al.
    In: IEEE Electron Device Letters, Jg. 27 (2006-09-01), Heft 9, S. 719-721
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    Gate-first Germanium nMOSFET with CVD HfO/sub 2/ gate dielectric and silicon surface passivation
    Wu, Nan ; Zhang, Qingchun ; et al.
    In: IEEE Electron Device Letters, Jg. 27 (2006-06-01), Heft 6, S. 479-481
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    30-nm scale fabrication of magnetic tunnel junctions using EB assisted CVD hard masks
    Isogami, S. ; Tsunoda, M. ; et al.
    In: IEEE Transactions on Magnetics, Jg. 41 (2005-10-01), Heft 10, S. 3607-3609
    Online academicJournal
    Zugriff:
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