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    The Role of the Gas Phase in Graphene Formation by CVD on Copper
    Zenasni, Aziz ; Vergnes, Hugues ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 20 (2013-10-31), S. 51-58
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    Deposition of Hexagonal Boron Nitride from N-Trimethylborazine (TMB) for Continuous CVD Coating of SiBNC Fibers
    Krüger, Reinhard ; Ye, Yaping ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 18 (2012-09-01), S. 249-255
    Online unknown
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    CVD Deposited Titania Thin Films for Gas Sensors with Improved Operating Characteristics
    Filatov, Leonid A. ; Alexandrov, Sergey E. ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 21 (2015-11-23), S. 327-333
    Online unknown
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    A Facile Route to Thin Films of Zinc Carbodiimide Using Aerosol-assisted CVD
    Grantham, William ; Hyett, Geoffrey ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 21 (2015-11-10), S. 281-287
    Online unknown
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    Electric-Field Aerosol-Assisted CVD: Synthesis, Characterization, and Properties of Tin Oxide Microballs Prepared from a Single Source Precursor
    Wan Jefrey Basirun ; K. G. Upul Wijayantha ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 21 (2015-11-12), S. 360-368
    Online unknown
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    Magnesium Oxide Thin Films with Tunable Crystallographic Preferred Orientation via Aerosol-Assisted CVD
    Carmalt, Claire J. ; Ponja, Sapna D. ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 21 (2015-05-04), S. 145-149
    Online unknown
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    Highly Photocatalytically Active Iron(III) Titanium Oxide Thin films via Aerosol-Assisted CVD
    Al-Thabaiti, Shaeel A. ; Bawaked, Salem M. ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 21 (2014-11-20), S. 21-25
    Online unknown
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    Focused Electron Beam-Induced CVD of Iron: a Practical Guide for Direct Writing
    Belić, Domagoj ; Wachter, Stefan ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 20 (2014-08-20), S. 243-250
    Online unknown
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    a-SiC:H Films by Remote Hydrogen Microwave Plasma CVD From Ethylsilane Precursors**
    Glebocki, Bartosz ; Wrobel, Aleksander M. ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 19 (2013-08-07), S. 242-250
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  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Deposition of Thin Copper Layers using Copper(II) Carboxylate Complexes withtert-Butylamine as New CVD Precursors
    Szymańska, Iwona ; Heimann, Janusz ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 19 (2013-08-07), S. 251-259
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  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Full CVD Reel-To-Reel Process to Obtain Perfectly Oriented Silicon Films on Metal Tapes with Oxide Buffer Layers**
    Tschepikov, Vsevolod ; Kaul, Andrey R. ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 20 (2014-07-25), S. 356-363
    Online unknown
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  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Catalyst-free Growth Mechanism and Structure of Graphene-like Nanosheets Formed by Hot-Filament CVD
    Cheng, Qijin ; Dong, Guobo ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 20 (2014-06-30), S. 345-351
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  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    CVD of Pt(C5H9)2to Synthesize Highly Dispersed Pt/SBA-15 Catalysts for Hydrogenation of Chloronitrobenzene
    Williams, Christopher T. ; Liang, Changhai ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 20 (2014-05-02), S. 146-151
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Effect of Annealing Temperature on Microstructure and UV Light Photocatalytic Activity of TiO2Films Grown by Atmospheric Pressure CVD
    Chen, Xiaofeng ; Man Siu Tse ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 20 (2013-11-06), S. 44-50
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    The Preparation and CVD Densification of Multi-walled Carbon Nanotube Felt Synthesized by a Catalytic CVD Method
    Zhang, H. ; Rand, Brian ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 14 (2008-02-01), S. 40-45
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Low Temperature Hetero-Epitaxial Growth of 3C-SiC Films on Si Utilizing Microwave Plasma CVD
    Zhang, Lei ; Zhuang, Hao ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 19 (2013-02-18), S. 29-37
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    High Yield Preparation of Carbon Nanotube Arrays of Good Quality by CVD
    Yao, Pei ; Chen, Xiaoping ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 18 (2012-07-19), S. 201-208
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Thin a-SiC:H Films Formed by Remote Hydrogen Microwave Plasma CVD using Dimethylsilane and Trimethylsilane Precursors
    Walkiewicz-Pietrzykowska, Agnieszka ; Wrobel, Aleksander M. ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 20 (2014-04-29), S. 112-117
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Photocatalytic and Photoelectrocatalytic Degradation of the Explosive RDX by TiO2 Thin Films Prepared by CVD and Anodic Oxidation of Ti
    Hitchman, Michael L. ; Tian, Fang ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 18 (2012-05-16), S. 112-120
    Online unknown
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  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Synthesis of Nitrogen-doped Carbon Nanocoils via One-step Acetonitrile Catalytic CVD using a Ni-Fe Layered Double Hydroxide as Catalyst Precursor
    Iwasaki, Tomohiro ; Nakamura, Hideya ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 19 (2013-10-31), S. 323-326
    Online unknown
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