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    (Invited) Cluster-Preforming-Deposited Si-Rich W Silicide: A New Contact Material for Advanced CMOS
    Ogawa, Shinichi ; Uchida, Noriyuki ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 89 (2019-04-23), S. 155-164
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    Deep Trenches Cleanliness Challenges for CMOS Image Sensors
    Côme de Buttet ; Dignat, Franck ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 80 (2017-08-15), S. 101-109
    Online unknown
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    (Invited) White-Light-Induced Annihilation of Percolation Paths in SiO2 and High-k Dielectrics - Prospect for Gate Oxide Reliability Rejuvenation and Optical-Enabled Functions in CMOS Integrated Circuits
    Kwang Sing Yew ; Kawashima, Tomohito ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 69 (2015-09-08), S. 169-181
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    (Invited) Solution-process Oxide TFTs for Hybrid Low-Voltage CMOS Applications
    Kim, Hyunggyu ; Im, Hwarim ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 67 (2015-05-04), S. 51-58
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    (Invited) Engineering Chalcogenide Materials – From Bulk Optics to CMOS-Compatible Microelectronic Integration
    Richardson, Kathleen ; Mayer, Theresa S. ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 61 (2014-03-19), S. 73-79
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    Ni (10%Pt) Silicide Processes for 22nm CMOS Technology and Beyond
    Wu, Cinan ; Gao, Jianfeng ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 60 (2014-02-27), S. 151-156
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    High K Dielectrics for Future CMOS Devices
    Robertson, John
    In: ECS Transactions, Jg. 19 (2009-05-15), S. 579-591
    Online unknown
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    Controlled Lateral Etching of Titanium Nitride in a CMOS Gate Structure Using DSP+
    Foster, John ; Besser, Paul R. ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 50 (2013-03-15), S. 321-326
    Online unknown
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    (Invited) Contacts in Advanced CMOS: History and Emerging Challenges
    Jean S. Jordan Sweet ; Lavoie, Christian ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 77 (2017-04-26), S. 59-79
    Online unknown
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    (Invited) Buried-Channel In0.7Ga0.3As MOSFETs and Vertical In0.7Ga0.3As Tunneling FETs for beyond CMOS Applications
    Zhou, Fei ; Zhao, Han ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 33 (2010-10-01), S. 383-390
    Online unknown
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    Impact of Work Function Optimized S/D Silicide Contact for High Current Drivability CMOS
    Teramoto, Akinobu ; Sugawa, Shigetoshi ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 28 (2010-04-16), S. 315-324
    Online unknown
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  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Evaluation of MOCVD Grown Niobium Nitride Films as Gate Electrode for Advanced CMOS Technology
    Reuter, Knud ; Fischer, Roland A. ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 16 (2008-10-03), S. 229-234
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    Atomic Layer Deposited Lanthanum-(Zirconate/Aluminate) Based High-K Dielectric Stacks For Future CMOS-Technology
    Abermann, S. ; Bethge, Ole ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 16 (2008-10-03), S. 273-283
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    (Invited) Ultrathin Ni1-xPtx Films as Electrical Contact in CMOS Devices
    Zhang, Shi-Li
    In: ECS Transactions, Jg. 45 (2012-04-27), S. 15-22
    Online unknown
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    Crystalline Rare-Earth Oxides as High-k Materials for Future CMOS Technologies
    H. Joerg Osten ; Bugiel, Eberhard ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 11 (2007-09-28), S. 287-297
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Si-Passivated Ge Gate Stacks with Low Interface State and Oxide Trap Densities Using Thulium Silicate
    Abedin, Ahmad ; Zurauskaite, Laura ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 98 (2020-09-08), S. 387-393
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Strain Relaxed Silicon Germanium Buffer Layers: From Growth to Integration Challenges
    Chung, Hua ; Dube, Abhishek ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 75 (2016-08-18), S. 599-604
    Online unknown
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    A Self-Aligned Sacrificial Emitter Process for High Performance SiGe HBT in BiCMOS
    Pekarik, Jack ; Cheng, Peng ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 50 (2013-03-15), S. 121-127
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Advanced Heterostructure Si-InSb on Insulator Formed by Bonding of Hydrogen Transferred Si Layer and Implanted SiO2 Film
    Tyschenko, Ida E. ; Cherkov, Elexander ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 6 (2007-04-27), S. 345-350
    Online unknown
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    Advanced Applications of Semiconductor Epitaxy for Cutting Edge Integrated Circuit Technolgy
    Sadana, Devendra K. ; Joel P. de Souza ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 3 (2006-10-20), S. 833-840
    Online unknown
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