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    Doping Effects in CMOS‐compatible CoSi Thin Films for Thermoelectric and Sensor Applications
    Calvo, Jesús ; Hindenberg, Meike ; et al.
    In: Zeitschrift für anorganische und allgemeine Chemie, Jg. 646 (2020-06-10), S. 1231-1237
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    Reduction of the thermal budget of AlGaN/GaN heterostructures grown on silicon: A step towards monolithic integration of GaN-HEMTs with CMOS
    Cordier, Yvon ; Maher, Hassan ; et al.
    In: physica status solidi (a), Jg. 212 (2015-01-15), S. 1145-1152
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    Bragg Soliton Fission: Bragg Soliton Compression and Fission on CMOS‐Compatible Ultra‐Silicon‐Rich Nitride (Laser Photonics Rev. 13(8)/2019)
    Tan, Dawn T. H. ; Blanco-Redondo, Andrea ; et al.
    In: Laser & Photonics Reviews, Jg. 13 (2019-08-01), S. 1970032-1970032
    Online unknown
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    Bragg Soliton Compression and Fission on CMOS‐Compatible Ultra‐Silicon‐Rich Nitride
    Ng, Doris K. T. ; Ching Eng Png ; et al.
    In: Laser & Photonics Reviews, Jg. 13 (2019-07-02), S. 1900114-1900114
    Online unknown
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    29.2: Silicon Ink-Based Poly Si CMOS TFT Fabricated on 300mm Stainless Steel Foil Substrates
    Chandra, Aditi ; Li, Joey ; et al.
    In: SID Symposium Digest of Technical Papers, Jg. 46 (2015-06-01), S. 419-422
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    Analysis of Nitric Oxide from Chemical Donors Using CMOS Platinum Microelectrodes
    Feeny, Rachel M. ; Wydallis, John B. ; et al.
    In: Electroanalysis, Jg. 27 (2015-02-20), S. 1104-1109
    Online unknown
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    A 5.25-V-tolerant bidirectional I/O circuit in a 28-nm CMOS process
    Ahn, Keun-Seon ; Yoo, Changsik ; et al.
    In: International Journal of Circuit Theory and Applications, Jg. 43 (2014-03-05), S. 822-828
    Online unknown
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    AlN/AlGaN/GaN buffer optimization on silicon (111): bow and crystal quality control for Si‐CMOS fabs
    DeVos, Brecht ; Kandaswamy, P. K. ; et al.
    In: physica status solidi c, Jg. 11 (2014-02-01), S. 450-453
    Online unknown
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    Molecular and Atomic Hydrogen Diffusion Behavior by Reaction Kinetic Analysis in Projection Range of Hydrocarbon Molecular Ion for CMOS Image Sensors
    Suzuki, Akihiro ; Shigematsu, Satoshi ; et al.
    In: physica status solidi (a), Jg. 216 (2019-05-28), S. 1900175-1900175
    Online unknown
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    Ultrathin TiN Membranes as a Technology Platform for CMOS-Integrated MEMS and BioMEMS Devices
    Schulz, K. ; Ehwald, K.-E. ; et al.
    In: Advanced Functional Materials, Jg. 21 (2011-03-25), S. 1652-1656
    Online unknown
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    The complexation of calcium(II) and lanthanide(III) cations with the phosphate substitute (carboxymethoxy)succinate (CMOS), as studied by magnetic resonance spectroscopy
    Bovée, W.M.M.J. ; Peters, J. A. ; et al.
    In: Recueil des Travaux Chimiques des Pays-Bas, Jg. 102 (2010-09-02), S. 255-263
    Online unknown
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    Wavelength filter exploiting serially coupled ring resonators fabricated by a standard silicon CMOS technology
    Lee, Wan-Gyu ; Kim, Woo-Ju ; et al.
    In: Microwave and Optical Technology Letters, Jg. 54 (2012-02-16), S. 933-936
    Online unknown
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    Lithography‐Free, Omnidirectional, CMOS‐Compatible AlCu Alloys for Thin‐Film Superabsorbers
    Mariama Rebello Sousa Dias ; Leite, Marina S. ; et al.
    In: Advanced Optical Materials, Jg. 6 (2017-12-13), S. 1700830-1700830
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Metal Alloys for Superabsorption: Lithography-Free, Omnidirectional, CMOS-Compatible AlCu Alloys for Thin-Film Superabsorbers (Advanced Optical Materials 2/2018)
    Leite, Marina S. ; Benson, Zackery A. ; et al.
    In: Advanced Optical Materials, Jg. 6 (2018), S. 1870007-1870007
    Online unknown
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    Beyond microelectronics: materials and technology for nano-scale CMOS devices
    Buchanan, Douglas A.
    In: physica status solidi (c), Jg. 1 (2004-08-01), S. S155- (8S.)
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    Proximity gettering technology for advanced CMOS image sensors using carbon cluster ion‐implantation technique: A review (Phys. Status Solidi A 7∕2017)
    Okuda, Hidehiko ; Shigemastu, Satoshi ; et al.
    In: physica status solidi (a), Jg. 214 (2017-07-01), S. 1770141-1770141
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    Proximity gettering technology for advanced CMOS image sensors using carbon cluster ion‐implantation technique: A review
    Hirose, Ryo ; Kadono, Takeshi ; et al.
    In: physica status solidi (a), Jg. 214 (2017-05-26), S. 1700216-1700216
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    Trapping and diffusion behaviour of hydrogen simulated with TCAD in projection range of carbon‐cluster implanted silicon epitaxial wafers for CMOS image sensors
    Okuyama, Ryosuke ; Hirose, Ryo ; et al.
    In: physica status solidi c, Jg. 14 (2017-04-05), S. 1700036-1700036
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    CMOS Fabrication of a Light Emitting Diode Based on Silicon/Porous Silicon Heterojunction
    Gaburro, Zeno ; Bellutti, Pierluigi ; et al.
    In: physica status solidi (a), Jg. 182 (2000-11-01), S. 407-412
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    42.3: 4‐in. VGA Reflection‐Type Poly‐Si TFT LCD with Integrated Digital Driver Using Seven‐Mask CG Silicon CMOS Process
    Washio, Hajime ; Hijikigawa, Masaya ; et al.
    In: SID Symposium Digest of Technical Papers, Jg. 31 (2000-05-01), S. 1014-1017
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