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  1. Detailansicht für Treffer 1 öffnen
    Trends in precursor design for conventional l and aerosol-assisted CVD of High-Tc superconductors
    HUBERT-PFALZGRAF, L. G ; GUILLON, H
    In: Thin film processing by chemical vapour deposition, Jg. 12 (1998), Heft 3, S. 221-236
    Online academicJournal
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  2. Detailansicht für Treffer 2 öffnen
    Evaluation of the simultaneous use of Cp2VMe2 and CpTiCl2N(SiMe3)2 as precursors to ceramic thin films containing titanium and vanadium : Towards titanium-vanadium carbonitride
    VALADE, L ; DANJOY, C ; et al.
    In: Thin film processing by chemical vapour deposition, Jg. 12 (1998), Heft 3, S. 173-187
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    Processing and properties of (Mo, Cr) oxycarbides from MOCVD
    WEI, W.-C. J ; LO, M.-H
    In: Thin film processing by chemical vapour deposition, Jg. 12 (1998), Heft 3, S. 201-220
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
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  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Chemical vapor deposition of tungsten oxide
    KIRSS, R. U ; MEDA, L
    In: Thin film processing by chemical vapour deposition, Jg. 12 (1998), Heft 3, S. 155-160
    Online academicJournal
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    Full Text Finder (Volltext)
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  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    Chemical vapor deposition of metal borides, 4 : The application of polyhedral boron clusters to the chemical vapor deposition formation of gadolinium boride thin-film materials
    KHER, S. S ; TAN, Y ; et al.
    In: Applied organometallic chemistry, Jg. 10 (1996), Heft 3-4, S. 297-304
    Online academicJournal
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    Full Text Finder (Volltext)
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  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    A kinetic model for the growth of ZnTe by metal organic chemical vapour deposition
    DUMONT, H ; QU'HEN, B ; et al.
    In: Applied organometallic chemistry, Jg. 8 (1994), Heft 2, S. 87-93
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
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  7. Detailansicht für Treffer 7 öffnen
    Thin film processing by chemical vapour deposition
    LAINE, R. M
    In: Applied organometallic chemistry, Jg. 12 (1998), Heft 3
    Online unknown
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
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