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    Wet Chemical Etching Behavior Investigation for CMOS Shallow Trench Isolation (STI) Shape Control
    Tai, Hsin ; Liao, Hsin-Yi ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 72 (2016-05-04), S. 227-231
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    (Invited) 'Small Size' Effects in Si-Based Epitaxies for Advanced CMOS Technologies
    Barge, D. ; Seiss, Birgit ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 64 (2014-08-12), S. 207-221
    Online unknown
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    (Invited) Opportunities of High Performance Ge CMOS
    Toriumi, Akira
    In: ECS Transactions, Jg. 67 (2015-05-04), S. 113-122
    Online unknown
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    (Invited) Development of Metal Source/Drain Ge-CMOS Using TiN/Ge and HfGe/Ge Contacts
    Yamamoto, Keisuke ; Wang, Dong ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 58 (2013-08-31), S. 167-178
    Online unknown
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    Ni (10%Pt) Silicide Processes for 22nm CMOS Technology and Beyond
    Wu, Cinan ; Gao, Jianfeng ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 60 (2014-02-27), S. 151-156
    Online unknown
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    (Invited) Status and Trends in Ge CMOS Technology
    Claeys, Cor ; Sioncke, Sonja ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 54 (2013-06-28), S. 25-37
    Online unknown
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    (Invited) Advanced Heterogeneous Integration of InP HBT and CMOS/SiGeBiCMOS Technologies
    Oyama, B. ; Poust, Ben ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 50 (2013-03-15), S. 161-168
    Online unknown
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    (Invited) Past, Present and Future: SiGe and CMOS Transistor Scaling
    Kuhn, Kelin J. ; Kotlyar, Roza ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 33 (2010-10-01), S. 3-17
    Online unknown
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    (Invited) GeSn Technology: Impact of Sn on Ge CMOS Applications
    Loo, Roger ; Temst, Kristiaan ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 41 (2011-10-04), S. 231-238
    Online unknown
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    Performance Limitations of Si Bulk CMOS and Alternatives for future ULSI
    Saraswat, Krishna C. ; Pethe, Abhijit ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 8 (2007-07-20), S. 9-14
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    Ge and III/V as Enabling Materials for Future CMOS Technologies
    Caymax, Matty ; Meuris, Marc ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 3 (2006-10-20), S. 511-518
    Online unknown
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    (Invited) Band-Edge Effective Work Functions by Controlling HfO2/TiN Interfacial Composition for Gate-Last CMOS
    Chambers, James J. ; Chapman, R. A. ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 35 (2011-04-25), S. 285-295
    Online unknown
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    (Invited) Aspect Ratio Trapping: A Unique Technology for Integrating Ge and III-Vs with Silicon CMOS
    Li, Jizhong ; Li, Jason ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 33 (2010-10-01), S. 963-976
    Online unknown
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    Impact of Work Function Optimized S/D Silicide Contact for High Current Drivability CMOS
    Teramoto, Akinobu ; Sugawa, Shigetoshi ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 28 (2010-04-16), S. 315-324
    Online unknown
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    Modeling Techniques for Strained CMOS Technology
    Windbacher, Thomas ; Selberherr, Siegfried ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 25 (2009-09-25), S. 3-18
    Online unknown
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    Electrical Defect Issues of Hetero-Epitaxy for Advanced Nanometric CMOS Technologies
    Mireia Bargallo Gonzalez ; Loo, Roger ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 18 (2009-03-06), S. 3-8
    Online unknown
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    Integration Challenges for Advanced Process-Strained CMOS on Biaxial-Strained-SOI (SSOI) Substrates
    Boschke, Roman ; Duenkel, Stefan ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 6 (2007-04-27), S. 15-22
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    (Invited) SOI Technologies from Microelectronics to Microsystems - Meeting the More than Moore Roadmap Requirements
    Raskin, Jean-Pierre
    In: ECS Transactions, Jg. 49 (2012-08-30), S. 15-23
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    (Invited) Growth of MnGe Nanostructures for Spintronics Applications
    Wang, Kang L. ; Xiu, Faxian
    In: ECS Transactions, Jg. 33 (2010-10-01), S. 89-99
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    Replacing SiO2 - Material and Processing Aspects of New Dielectrics
    Adelmann, Christoph ; Nyns, Laura ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 13 (2008-10-24), S. 3-13
    Online unknown
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