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    Single-source CVD of zinc sulfide-based thin films from zinc bis(O-ethylxanthate)
    BARRECA, Davide ; TONDELLO, Eugenio ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 9 (2003), Heft 2, S. 93-98
    Online academicJournal
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    Preparation of Pt-Ru alloyed thin films using a single-source CVD precursor
    HUANG, Shu-Fen ; YUN, CHI ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 9 (2003), Heft 3, S. 157-161
    Online academicJournal
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    Gas phase study of systems for the CVD of silver
    HAASE, Thomas ; KOHSE-HÖINHAUS, Katharina ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 9 (2003), Heft 3, S. 144-148
    Online academicJournal
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    Wie komme ich dran?
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    Deposition of conductive Ru and RuO2 thin films employing a pyrazolate complex [Ru(CO)3(3,5-(CF3)2-pz)]2 as the CVD source reagent
    SONG, Yi-Hwa ; CHEN, Yao-Lun ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 9 (2003), Heft 3, S. 162-169
    Online academicJournal
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    CVD of AgI complexes with tertiary phosphines and perfluorinated carboxylates : A new class of silver precursors
    SZLYK, Edward ; PISZCZEK, Piotr ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 7 (2001), Heft 3, S. 111-116
    Online academicJournal
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    CVD of MgO from a Mg(β-ketoiminate)2 : Preparation, characterization, and utilization of an intramolecularly stabilized, highly volatile, thermally robust precursor
    MATTHEWS, J. S ; JUST, O ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 6 (2000), Heft 3, S. 129-132
    Online academicJournal
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    Deposition of iridium thin films using new Ir1 CVD precursors
    CHEN, Yao-Lun ; LIU, Chao-Shiuan ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 8 (2002), Heft 1, S. 17-20
    Online academicJournal
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    New CVD source reagents for osmium thin film deposition
    YU, Huan-Li ; YUN, CHI ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 7 (2001), Heft 6, S. 245-248
    Online academicJournal
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    Another rate-determining step in the CVD of copper
    KIM, Baek-Mann ; LEE, Hong H
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 7 (2001), Heft 6, S. 242-245
    Online academicJournal
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    Self-reducible CuII source reagents for the CVD of copper
    HSU, Peng-Fu ; YUN, CHI ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 7 (2001), Heft 1, S. 28-31
    Online academicJournal
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    Polydentate amines as CVD precursor ancillary ligands. Epitaxial MgO thin-film growth using a highly volatile, thermally and air-stable magnesium precursor
    BABCOCK, J. R ; BENSON, D. D ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 6 (2000), Heft 4, S. 180-183
    Online academicJournal
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  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    AuI and AgI complexes with tertiary phosphines and perfluorinated carboxylates as precursors for CVD of gold and silver
    SZŁYK, E ; PISZCZEK, P ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 6 (2000), Heft 3, S. 105-108
    Online academicJournal
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    Volatile lead β-diketonates as CVD precursors
    KRISYUK, V. V ; TURGAMBAEVA, A. E ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 4 (1998), Heft 2, S. 43-46
    Online academicJournal
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    Synthesis of ZnO thin films by metal-organic CVD of Zn(CH3COO)2
    JAIN, S ; KODAS, T. T ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 4 (1998), Heft 2, S. 51-59
    Online academicJournal
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    A new chromium-based molecular magnet grown as a thin film by CVD
    CASELLAS, Hélène ; DE CARO, Dominique ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 8 (2002), Heft 4, S. 145-147
    Online academicJournal
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Organometallic ruthenium source reagents for CVD
    LEE, Feng-Jen ; YUN, CHI ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 7 (2001), Heft 3, S. 99-101
    Online academicJournal
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Deposition of thin films of gallium sulfide from a novel liquid single-source precursor, Ga(SOCNEt2)3, by aerosol-assisted CVD
    HORLEY, G. A ; LAZELL, M. R ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 5 (1999), Heft 5, S. 203-205
    Online academicJournal
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    Bis(8-hydroxy-5-quinolyl)-methane aluminum chelate polymer film prepared by CVD
    YU, J ; CHEN, Z ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 7 (2001), Heft 2, S. 66-68
    Online academicJournal
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    Synthesis of pyrite (FeS2) thin films by low-pressure MOCVD
    MEESTER, B ; REIJNEN, L ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 6 (2000), Heft 3, S. 121-128
    Online academicJournal
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    MOCVD of Al2O3 films using new dialkylaluminum acetylacetonate precursors : Growth kinetics and process yields
    BATTISTON, Giovanni A ; CARTA, Giovanni ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 7 (2001), Heft 2, S. 69-74
    Online academicJournal
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