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    Sub-bandgap optical absorption spectroscopy of hydrogenated microcrystalline silicon thin films prepared using hot-wire CVD (Cat-CVD) process
    GOKTAS, O ; ISIK, N ; et al.
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 121-124
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Recent progress of Cat-CVD research in Japan: bridging between the first and second Cat-CVD conferences
    MATSUMURA, Hideki ; UMEMOTO, Hironobu ; et al.
    In: Proceedings of the Second International Conference on Cat-CVD (Hot Wire CVD) Process, Denver, Colorado, USA, September 10-13, 2002, Jg. 430 (2003), Heft 1-2, S. 7-14
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Status of Cat-CVD (Hot-Wire CVD) research in Europe
    SCHROPP, R. E. I
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 17-24
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Relation between pin a-Si:H solar-cell performances and intrinsic-layer properties prepared by Cat-CVD
    KITAMURA, T ; HONDA, K ; et al.
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 264-267
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Potential of Cat-CVD deposited a-SiC:H as diffusion barrier layer on low-k HSQ films for ULSI
    SUNIL KUMAR, SINGH ; KUMBHAR, Alka A ; et al.
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 318-321
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Expectation for Cat-CVD in ULSI technology and business trend
    AKASAKA, Yoichi
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 15-20
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    A layer-by-layer Cat-CVD of conformal and stoichiometric silicon nitride with in-situ H2 post-treatment
    KITAZOE, Makiko ; OSONO, Shuuji ; et al.
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 160-163
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Cat-CVD (hot-wire CVD): how different from PECVD in preparing amorphous silicon
    MATSUMURA, Hideki ; UMEMOTO, Hironobu ; et al.
    In: Amorphous and Microcrystalline Semiconductors - Science and Technology, Jg. 338-40 (2004), S. 19-26
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    The mechanism of alumina formation from TMA and molecular oxygen using catalytic-CVD with an iridium catalyzer
    OGITA, Yoh-Ichiro ; TOMITA, Toshiyuki
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 35-38
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Microstructural defect characterisation of a-Si:H deposited by low temperature HW-CVD on paper substrates
    BRITTON, D. T ; HITTING, M ; et al.
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 79-83
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Internal stress in Cat-CVD microcrystalline Si:H thin films
    SAHU, Laxmi ; KALE, Nitin ; et al.
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 117-120
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Beneficial effects of sputtered ZnO:Al protection layer on SnO2:F for high-deposition rate hot-wire CVD p-i-n solar cells
    FRANKEN, R. H ; VAN DER WERF, C. H. M ; et al.
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 47-50
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    High quality thick CVD diamond films homoepitaxially grown on (111)-oriented substrates
    TALLAIRE, A ; ACHARD, J ; et al.
    In: Diamond and related materials, Jg. 41 (2014), S. 34-40
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Modeling and measurement of film deposition in a one-dimensional hot-wire CVD system
    JIE, ZHOU ; WOLDEN, Colin A
    In: Proceedings of the Second International Conference on Cat-CVD (Hot Wire CVD) Process, Denver, Colorado, USA, September 10-13, 2002, Jg. 430 (2003), Heft 1-2, S. 28-32
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Development of Cat-CVD apparatus for 1-m-size large-area deposition
    ISHIBASHI, Keiji ; KARASAWA, Minoru ; et al.
    In: Proceedings of the Second International Conference on Cat-CVD (Hot Wire CVD) Process, Denver, Colorado, USA, September 10-13, 2002, Jg. 430 (2003), Heft 1-2, S. 58-62
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    What is the difference between catalytic CVD and plasma-enhanced CVD? Gas-phase kinetics and film properties
    MASUDA, Atsushi ; IZUMI, Akira ; et al.
    In: Selected papers revised from the Proceedings of the Sixth International Symposium on Sputtering and Plasma Processes (ISSP 2001), 13-15 June 2001, Japan, Jg. 66 (2002), Heft 3-4, S. 293-297
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Thin film sulphides and oxides of 3d metals prepared from complex precursors by CVD
    BESSERGENEV, V. G ; PEREIRA, R. J. F ; et al.
    In: Proceedings of the 16th European Conference on Chemical Vapor Deposition (EUROCVD-16), The Hague, Jg. 201 (2007), Heft 22-23, S. 9141-9145
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Silicon CVD deposition for low cost applications in photovoltaics
    SCHMICH, Evelyn ; SCHILLINGER, Norbert ; et al.
    In: Proceedings of the 16th European Conference on Chemical Vapor Deposition (EUROCVD-16), The Hague, Jg. 201 (2007), Heft 22-23, S. 9325-9329
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Polyimide (PI) films by chemical vapor deposition (CVD) : Novel design, experiments and characterization
    PUIG-PEY GONZALEZ, Jaime ; LAMURE, Alain ; et al.
    In: Proceedings of the 16th European Conference on Chemical Vapor Deposition (EUROCVD-16), The Hague, Jg. 201 (2007), Heft 22-23, S. 9437-9441
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Modeling of plasma CVD on the inner surface of a microchannel
    KADOWAKI, Motoki ; YAMAMOTO, Aguru ; et al.
    In: Proceedings of the 18th Symposium on Plasma Science for Materials (SPSM-18), Tokyo, Japan, June 28-29, 2005, Jg. 515 (2007), Heft 9, S. 4197-4202
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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