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    Deposition of DLC:H films by C-sputtering assisted CH4-Ar PE-CVD technique
    YOKOTA, K ; NAKATANI, T ; et al.
    In: EPJ. Applied physics (Print), Jg. 39 (2007), Heft 1, S. 17-21
    academicJournal
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    On the correlation between CVD growth conditions and crystalline quality and abundance of multi-walled carbon nanotubes
    DONATO, M. G ; MESSINA, G ; et al.
    In: EPJ. Applied physics (Print), Jg. 41 (2008), Heft 3, S. 237-242
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    High quality CVD diamond: a Raman scattering and photoluminescence study
    DONATO, M. G ; FAGGIO, G ; et al.
    In: The European physical journal. B, Condensed matter physics, Jg. 20 (2001), Heft 1, S. 133-139
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
    Wie komme ich dran?
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    The growth of bunched and multi-circularly wrapped carbon nanotubes on bulk magnetic alloys by microwave enhanced hot-filament CVD with a dilute gas of ammonia
    MIAO, H. Y ; LUE, J. T ; et al.
    In: EPJ. Applied physics (Print), Jg. 29 (2005), Heft 2, S. 153-160
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Control of gas-phase nucleation and flow visualization in a special cold wall CVD reactor
    BISCH, C ; LLAURO, G ; et al.
    In: EPJ. Applied physics (Print), Jg. 3 (1998), Heft 1, S. 41-47
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Mechanisms of CVD diamond nucleation and growth on mechanically scratched Si(100) surfaces
    ARNAULT, J. C ; DEMUYNCK, L ; et al.
    In: The European physical journal. B, Condensed matter physics, Jg. 11 (1999), Heft 2, S. 327-343
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
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    In situ pulsed Raman study of the growth process of diamond films in a microwave plasma assisted CVD reactor
    MERMOUX, M ; FAYETTE, L ; et al.
    In: Analusis (Imprimé), Jg. 23 (1995), Heft 7, S. 325-332
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Raman analysis and optical transparency of CVD diamond films : Raman spectroscopy
    VON KAENEL, Y ; BLANK, E
    In: Analusis (Imprimé), Jg. 22 (1994), Heft 10, S. M35- (3S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    In situ Raman monitoring of the growth of thin films in plasma assisted CVD reactors. Growth of diamond films
    MERMOUX, M ; FAYETTE, L ; et al.
    In: Analusis (Imprimé), Jg. 23 (1995), Heft 2, S. M19- (3S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Preliminary studies of atmospheric pressure plasma enhanced CVD (AP-PECVD) of thin oxide films
    MCSPORRAN, N ; HITCHMAN, M. L ; et al.
    In: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 95 (2002), S. Pr4.17
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Vapor pressure of precursors for CVD on the base of platinum group metals
    MOROZOVA, N. B ; ZHARKOVA, G. I ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.609
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Unique precursor delivery and control afforded by low-pressure pulsed-CVD process with ultrasonic atomization
    KRUMDIECK, S ; SBAIZERO, O ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.1161
    Konferenz
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    Thermodynamic, kinetic and mass transport calculations, as the basis for materials processing by CVD
    BERNARD, C
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.3
    Konferenz
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Thermal conversions of some Ba, Sr, Ti oxide precursors for CVD
    TURGAMBAEVA, A. E ; IGUMENOV, I. K
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.621
    Konferenz
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Processing of (PyC/TiC)n multilayered coatings by pulsed CVD and RCVD
    RAPAUD, O ; VINCENT, H ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.391
    Konferenz
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Organic chemistry by CVD
    HE, L ; HITCHMAN, M. L ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.261
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    NIR diode laser based process control for industrial CVD reactors
    HOPFE, V ; SHEEL, D. W ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.1153
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Metal and oxide thin film MO CVD as a base for nanostructure and superlattice formation
    BAKOVETS, V. V ; GELFOND, N. V ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.561
    Konferenz
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    Halide CVD of dielectric and ferroelectric oxides
    HARSTA, A
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.223
    Konferenz
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    Formation of high moisture and dopant diffusion resistivity silicon nitride films by catalytic-CVD method
    IZUMI, A ; SATO, H ; et al.
    In: EUROCVD 13: Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition, Glyfada, Athens, Greece, August 26-31, 2001, Jg. 83 (2001), S. Pr3.901
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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