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462 Treffer

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    Recent progress of Cat-CVD research in Japan: bridging between the first and second Cat-CVD conferences
    MATSUMURA, Hideki ; UMEMOTO, Hironobu ; et al.
    In: Proceedings of the Second International Conference on Cat-CVD (Hot Wire CVD) Process, Denver, Colorado, USA, September 10-13, 2002, Jg. 430 (2003), Heft 1-2, S. 7-14
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Status of Cat-CVD (Hot Wire CVD) research in the United States
    MAHAN, A. H
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 12-16
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    Status of Cat-CVD (Hot-Wire CVD) research in Europe
    SCHROPP, R. E. I
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 17-24
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Tandem and triple junction silicon thin film solar cells with intrinsic layers prepared by hot-wire CVD
    STOLK, R. L ; LI, H ; et al.
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 256-259
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    Internal stress in Cat-CVD microcrystalline Si:H thin films
    SAHU, Laxmi ; KALE, Nitin ; et al.
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 117-120
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Development of Cat-CVD apparatus for 1-m-size large-area deposition
    ISHIBASHI, Keiji ; KARASAWA, Minoru ; et al.
    In: Proceedings of the Second International Conference on Cat-CVD (Hot Wire CVD) Process, Denver, Colorado, USA, September 10-13, 2002, Jg. 430 (2003), Heft 1-2, S. 58-62
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Identification and gas phase kinetics of radical species in Cat-CVD processes of SiH4
    NOZAKI, Yoshitaka ; KITAZOE, Makiko ; et al.
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 47-50
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    Growth mechanisms and structural properties of microcrystalline silicon films deposited by catalytic CVD
    NIIKURA, C ; KIM, S. Y ; et al.
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 178-183
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    Development of Cat-CVD apparatus : a method to control wafer temperatures under thermal influence of heated catalyzer
    KARASAWA, Minoru ; MASUDA, Atsushi ; et al.
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 71-74
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    The role of hydrogen dilution of silane and phosphorus doping on hydrogenated microcrystalline silicon (μc-Si:H) films prepared by hot-wire chemical vapor deposition (HW-CVD) technique
    JADKAR, S. R ; SALI, J. V ; et al.
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 206-212
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Surface modification of silicon related materials using a catalytic CVD system for ULSI applications
    IZUMI, Akira
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 260-265
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Highly conducting doped microcrystalline silicon (μc-Si:H) at very low substrate temperature by Cat-CVD
    DUSANE, R. O ; DIEHL, Frank ; et al.
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 202-205
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Fundamental properties of ECR plasma CVD and hydrogen-induced low temperature Si epitaxy
    SASAKI, Kimihiro
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 225-229
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Formation of silicon films for solar cells by the Cat-CVD method
    KOMODA, Manabu ; KAMESAKI, Koji ; et al.
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 198-201
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Development of the Cat-CVD apparatus and its feasibility for mass production
    ISHIBASHI, Keiji
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 55-60
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Correlated structural and electronic properties of microcrystalline silicon films deposited at low temperature by catalytic CVD
    BOUREE, J. E
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 157-162
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Substrate influence on the properties of doped thin silicon layers grown by Cat-CVD
    SOLER, D ; FONRODONA, M ; et al.
    In: Proceedings of the Second International Conference on Cat-CVD (Hot Wire CVD) Process, Denver, Colorado, USA, September 10-13, 2002, Jg. 430 (2003), Heft 1-2, S. 157-160
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Shutterless deposition of phosphorous doped microcrystalline silicon by Cat-CVD
    FONRODONA, M ; GORDIJN, A ; et al.
    In: Proceedings of the Second International Conference on Cat-CVD (Hot Wire CVD) Process, Denver, Colorado, USA, September 10-13, 2002, Jg. 430 (2003), Heft 1-2, S. 145-148
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Quantitative analysis of tungsten, oxygen and carbon concentrations in the microcrystalline silicon films deposited by hot-wire CVD
    BOUREE, J. E ; GUILLET, J ; et al.
    In: Proceedings of the Second International Conference on Cat-CVD (Hot Wire CVD) Process, Denver, Colorado, USA, September 10-13, 2002, Jg. 430 (2003), Heft 1-2, S. 110-115
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Preparation of poly-Si films by Cat-CVD for thin film transistor
    SUNAYAMA, Hideki ; YAMADA, Kazutaka ; et al.
    In: Proceedings of the Second International Conference on Cat-CVD (Hot Wire CVD) Process, Denver, Colorado, USA, September 10-13, 2002, Jg. 430 (2003), Heft 1-2, S. 226-229
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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