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    Diagnostic and analytical study on a low-pressure limit of diamond chemical vapor deposition in inductively coupled CO-CH4-H2 plasmas.
    Teii, Kungen ; Hori, Masaru ; et al.
    In: Journal of Applied Physics, Jg. 95 (2004-04-15), Heft 8, S. 4463-4470
    Online academicJournal
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    Growth of thick heavily boron-doped diamond single crystals: Effect of microwave power density.
    Issaoui, R. ; Achard, J. ; et al.
    In: Applied Physics Letters, Jg. 97 (2010-11-01), Heft 18, S. 182101-1- (3S.)
    Online academicJournal
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    Effects of pulse bias duty cycle on fullerenelike nanostructure and mechanical properties of hydrogenated carbon films prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition method.
    Ji, Li ; Li, Hongxuan ; et al.
    In: Journal of Applied Physics, Jg. 105 (2009-05-15), Heft 10, S. 106113-106113
    Online academicJournal
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    Origin of platelike granular structure for the ultrananocrystalline diamond films synthesized in H2-containing Ar/CH4 plasma.
    Wang, Chuan-Sheng ; Chen, Huang-Chin ; et al.
    In: Journal of Applied Physics, Jg. 107 (2010-02-01), Heft 3, S. 34304-1- (7S.)
    Online academicJournal
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    Effects of micro- and macro-plasma-sheath electric fields on carbon nanotube growth in a cross-field radio-frequency discharge.
    Hatakeyama, R. ; Jeong, G. H. ; et al.
    In: Journal of Applied Physics, Jg. 96 (2004-12-01), Heft 11, S. 6053-6060
    Online academicJournal
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    Effect of H2 dilution on the growth of low temperature as-deposited poly-Si films using SiF4/SiH4/H2 plasma.
    Kim, Sung Ki ; Park, Kyu Chang ; et al.
    In: Journal of Applied Physics, Jg. 77 (1995-05-15), S. 5115-5118
    Online academicJournal
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    Short-range order, microstructure and their correlation with light-induced degradation in hydrogenated amorphous silicon deposited at high growth rates by cathode heating technique.
    Chattopadhyay, S. ; Sharma, S. N. ; et al.
    In: Journal of Applied Physics, Jg. 76 (1994-11-01), S. 5208-5213
    Online academicJournal
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    Characterization of silicon films deposited in presence of nitrogen plasma.
    Patil, Sheetal J. ; Bodas, Dhananjay S. ; et al.
    In: Vacuum, Jg. 65 (2002-02-26), Heft 1, S. 91-100
    academicJournal
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    X-ray pole figure analysis on columnar-structured microcrystalline silicon: Growth-induced crystallographic axial alignment in solid phase.
    Sobajima, Yasushi ; Nakano, Shinya ; et al.
    In: Journal of Applied Physics, Jg. 101 (2007-05-15), Heft 10, S. 103537-103537
    Online academicJournal
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    Self-organized vertically aligned single-crystal silicon nanostructures with controlled shape and aspect ratio by reactive plasma etching.
    Xu, S. ; Levchenko, I. ; et al.
    In: Applied Physics Letters, Jg. 95 (2009-09-14), Heft 11, S. 111505-111505
    Online academicJournal
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