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    Low Dark Count Geiger Mode Avalanche Photodiodes Fabricated in Conventional CMOS Technologies : Maghreb-Europe meeting on materials and their applications for devices and sensors; MADICA
    Vilella, E. ; Arbat, A. ; et al.
    In: SENSOR LETTERS, Jg. 9 (2011), Heft 6, S. 2408-2411
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Impacts of Excimer Laser Annealing on Shallow B-Doped Back-Surface for Back-Illuminated CMOS Imagers Applications : Maghreb-Europe meeting on materials and their applications for devices and sensors; MADICA
    Ali-Guerry, Z.A.F. ; Dutartre, D. ; et al.
    In: SENSOR LETTERS, Jg. 9 (2011), Heft 6, S. 2137-2140
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    High Yield Polymer MEMS Process for CMOS/MEMS Integration : Microelectromechanical Systems : materials and devices; Microelectromechanical systems-- materials and devices IV
    Ray, P. ; Seena, V. ; et al.
    In: MATERIALS RESEARCH SOCIETY SYMPOSIUM PROCEEDINGS, Jg. 1299 (2011), S. 91-96
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Characterization and Optimization of Seals-Off for Very Low Pressure Sensors (VLPS) Fabricated by CMOS MEMS Process : NEMS/MEMS technology and devices; selected peer reviewed papers from the International conference on materials for advanced technologies
    Buyong, M.R. ; Aziz, N.A. ; et al.
    In: ADVANCED MATERIALS RESEARCH -ZUG-, Jg. 74 (2009), S. 231-234
    Online Konferenz
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
    Wie komme ich dran?
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    III/V Nanowire FETs for CMOS? : SiGe, Ge, and related compounds; materials, processing, and devices
    Wernersson, L.
    2008
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Opportunities for Group IV Nanowire Devices in Si CMOS Technology : SiGe, Ge, and related compounds; materials, processing, and devices
    Tutuc, E. ; Banerjee, S. ; et al.
    2008
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Nanowires to Replace Planar CMOS? : SiGe, Ge, and related compounds; materials, processing, and devices
    Thean, A.
    2008
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    High-speed, Monolithic CMOS Receivers with Ge on Si Waveguide Photodetectors : SiGe, Ge, and related compounds; materials, processing, and devices
    Masini, G. ; Sahni, S. ; et al.
    2008
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    SiGe Selective Epitaxy: Morphology and Thickness Control for High Performance CMOS Technology : SiGe, Ge, and related compounds; materials, processing, and devices
    Holt, J.R. ; Harley, E.C. ; et al.
    2008
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Uniaxially Strained SGOI and SSOI Channels for High Performance Multi-Gate CMOS : SiGe, Ge, and related compounds; materials, processing, and devices
    Irisawa, T. ; Numata, T. ; et al.
    2008
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Carbon- and Tin- Incorporated Source/Drain Stressors for CMOS Transistors : SiGe, Ge, and related compounds; materials, processing, and devices
    Yeo, Y.
    2008
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Comparison Between Harmonic Distortion in Circular Gate and Conventional SOI nMOSFET Using 0.13 μm Partially-Depleted SOI CMOS Technology : Analytical and diagnostic techniques for semiconductor materials devices and processes
    Dantas, L.P. ; Gimenez, S.P.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 11 (2007), Heft 3, S. 85-96
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    An Illustration of 90nm CMOS Layout on PC : ICCDCS 2004; Devices, circuits and systems
    Dhia, S. B. ; Sicard, E.
    In: PROCEEDINGS OF THE IEEE INTERNATIONAL CARACAS CONFERENCE ON DEVICES CIRCUITS AND SYSTEMS, Jg. CONF 4 (2004), S. 315-318
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    High Performance Active Pixel Sensors Fabricated in a Standard 2.0 um E CMOS Technology : ICCDCS 2004; Devices, circuits and systems
    Mestanza, S. N. M. ; Jimenez, H. G. ; et al.
    In: PROCEEDINGS OF THE IEEE INTERNATIONAL CARACAS CONFERENCE ON DEVICES CIRCUITS AND SYSTEMS, Jg. CONF 4 (2004), S. 276-280
    Konferenz
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    SCR Device for ESD Protection in Sub-Micron Triple Well Silicided CMOS Processes : ICCDCS 2004; Devices, circuits and systems
    Salcedo, J. A. ; Liou, J. J. ; et al.
    In: PROCEEDINGS OF THE IEEE INTERNATIONAL CARACAS CONFERENCE ON DEVICES CIRCUITS AND SYSTEMS, Jg. CONF 4 (2004), S. 65-70
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Design and Simulation Difference Types CMOS Phase Frequency Detector for high speed and low jitter PLL : ICCDCS 2004; Devices, circuits and systems
    Arshak, K. ; Abubaker, O. ; et al.
    In: PROCEEDINGS OF THE IEEE INTERNATIONAL CARACAS CONFERENCE ON DEVICES CIRCUITS AND SYSTEMS, Jg. CONF 4 (2004), S. 188-191
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    CMOS Technology Future (invited) : ICCDCS 2004; Devices, circuits and systems
    Iwai, H.
    In: PROCEEDINGS OF THE IEEE INTERNATIONAL CARACAS CONFERENCE ON DEVICES CIRCUITS AND SYSTEMS, Jg. CONF 4 (2004), S. 179-182
    Konferenz
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    CMOS Distributed Amplifiers (invited) : ICCDCS 2004; Devices, circuits and systems
    Ranuarez, J. C. ; Ramadass, Y. K. ; et al.
    In: PROCEEDINGS OF THE IEEE INTERNATIONAL CARACAS CONFERENCE ON DEVICES CIRCUITS AND SYSTEMS, Jg. CONF 4 (2004), S. 29-36
    Konferenz
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    Low-Voltage Low-Power Super Class-AB CMOS OP-AMP with Rail-to-Rail Input/Output Swing (Invited) : ICCDCS 2004; Devices, circuits and systems
    Baswa, S. ; Bikumandla, M. ; et al.
    In: PROCEEDINGS OF THE IEEE INTERNATIONAL CARACAS CONFERENCE ON DEVICES CIRCUITS AND SYSTEMS, Jg. CONF 4 (2004), S. 83-86
    Konferenz
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    Frequency - Controllable Image Rejection Down CMOS Mixer : ICCDCS 2004; Devices, circuits and systems
    Phan, A. T. ; Kim, C. W. ; et al.
    In: PROCEEDINGS OF THE IEEE INTERNATIONAL CARACAS CONFERENCE ON DEVICES CIRCUITS AND SYSTEMS, Jg. CONF 4 (2004), S. 46-50
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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