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    2-Methyl-1-hexen-3-yne Lewis base stabilized β-diketonate copper(I) complexes: X-ray structures, theoretical study, and low-temperature chemical vapor deposition of copper metal
    CHEN, T.-Y ; VAISSERMANN, J ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 13 (2001), Heft 11, S. 3993-4004
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Chemical vapor deposition of cerium oxide using the precursors [Ce(hfac)3(glyme)]
    POLLARD, K. D ; JENKINS, H. A ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 12 (2000), Heft 3, S. 701-710
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Composition and microstructure of cobalt oxide thin films obtained from a novel cobalt(II) precursor by chemical vapor deposition
    BARRECA, Davide ; MASSIGNAN, Cristian ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 13 (2001), Heft 2, S. 588-593
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Synthesis and characterization of liquid MOCVD precursors for thin films of cadmium oxide
    GULINO, Antonino ; DAPPORTO, Paolo ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 14 (2002), Heft 12, S. 4955-4962
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Synthesis, X-ray structure, and characterization of Ag(hfa).tetraglyme [hfa = hexafluoroacetylacetonate] : A novel adduct for the fabrication of metallic silver based films via in situ self reduction
    FRAGALA, M. E ; MALANDRINO, G ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 12 (2000), Heft 2, S. 290-293
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Synthesis and characterization of novel self-generating liquid MOCVD precursors for thin films of zinc oxide
    GULINO, A ; CASTELLI, F ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 12 (2000), Heft 2, S. 548-554
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Laser-induced deposition of palladium and gas-phase photofragmentation pathways from (2-methylallyl)(1,1,1,5,5,5-hexafluoro-2,4-pentanedionato) palladium
    CHEON, J ; MURAOKA, P ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 12 (2000), Heft 2, S. 511-516
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Chemical vapor deposition of tantalum oxide from tetraethoxo(β-diketonato)tantalum(V) complexes
    POLLARD, K. D ; PUDDEPHATT, R. J
    In: Chemistry of materials, Jg. 11 (1999), Heft 4, S. 1069-1074
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    Properties of [Mg2(thd)4] as a precursor for atomic layer deposition of MgO thin films and crystal structures of [Mg2(thd)4] and [Mg(thd)2(EtOH)2]
    HATANPÄÄ, T ; IHANUS, J ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 11 (1999), Heft 7, S. 1846-1852
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Synthesis, characterization, crystal structure and mass transport properties of lanthanum β-diketonate glyme complexes, volatile precursors for metal-organic chemical vapor deposition applications
    MALANDRINO, G ; BENELLI, C ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 10 (1998), Heft 11, S. 3434-3444
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Reactions of Cu(hfac)2 and Co2(CO)8 during chemical vapor deposition of copper-cobalt films
    SHUO, GU ; XUEBIN, YAO ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 10 (1998), Heft 8, S. 2145-2151
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Allyl(β-diketonato)palladium(II) complexes, including liquid precursors, for chemical vapor deposition of palladium
    YIPING, ZHANG ; ZHENG, YUAN ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 10 (1998), Heft 8, S. 2293-2300
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Organometallic chemical vapor deposition of palladium under very mild conditions of temperature in the presence of a low reactive gas partial pressure
    HIERSO, J.-C ; SATTO, C ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 8 (1996), Heft 10, S. 2481-2485
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Chemical vapor deposition of copper from (hfac)CuL (L = VTMS and 2-butyne) in the presence of water, methanol, and dimethyl ether
    JAIN, A ; KODAS, T. T ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 8 (1996), Heft 5, S. 1119-1127
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Mechanistic role of H2O and the ligand in the chemical vapor deposition of Cu, Cu2O, CuO, and Cu3N from bis(1,1,1,5,5,5-hexafluoropentane-2,4-dionato)copper(II)
    JIRI, PINKAS ; HUFFMAN, J. C ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 7 (1995), Heft 8, S. 1589-1596
    Online academicJournal
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Chemical vapor deposition of silver
    ZHENG, YUAN ; DRYDEN, N. H ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 7 (1995), Heft 9, S. 1696-1702
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
    Wie komme ich dran?
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    Bond breaking in the chemical vapor deposition precursor (1,1,1,5,5,5-hexafluoro-2,4-pentanedionato)(η2-1,5-cyclooctadiene)-copper(I) studied by variable-temperature X-ray crystallography and solid-state NMR spectroscopy
    RAVI, KUMAR ; FRONCZEK, F. R ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 6 (1994), Heft 5, S. 587-595
    Online academicJournal
    Zugriff:
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    New precursors for chemical vapor deposition of iridium
    CHONGYING, XU ; BAUM, T. H ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 10 (1998), Heft 9, S. 2329-2331
    academicJournal
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    New precursors for barium metal-organic chemical vapor deposition. In situ growth of epitaxial barium titanate films using a liquid barium precursor
    NEUMAYER, D. A ; STUDEBAKER, D. B ; et al.
    In: Chemistry of materials, Jg. 6 (1994), Heft 7, S. 878-880
    Online academicJournal
    Zugriff:
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    Wie komme ich dran?
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