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    Examination and evaluation of La.sub.2O.sub.3 as gate dielectric for sub-100nm CMOS and DRAM technology
    Capodieci, V. ; Wiest, F. ; et al.
    In: Microelectronics and Reliability, Jg. 45 (2005-05-01), Heft 5-6, S. 937-940
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
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    Nanoscale electrical characterization of ultrathin high-k dielectric MOS stacks: A conducting AFM study
    Uppal, H.J. ; Bernardini, S. ; et al.
    In: Materials Science in Semiconductor Processing, Jg. 11 (2008-10-01), Heft 5, S. 250-253
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Optical characterization of HfO.sub.2 by spectroscopic ellipsometry: Dispersion models and direct data inversion
    Sancho-Parramon, Jordi ; Modreanu, Mircea ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 516 (2008-09-30), Heft 22, S. 7990-7995
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Structural and surface properties of Si.sub.1-x Ge.sub.x thin films obtained by reduced pressure CVD
    Teixeira, R.C. ; Doi, I. ; et al.
    In: Applied Surface Science, Jg. 254 (2007-10-31), Heft 1, S. 207-212
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    CV characteristics of polycrystalline sige films with low GE concentration
    Teixeira, Ricardo Cotrin ; Doi, Ioshiaki ; et al.
    In: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, B, Jg. 253 (2006-12-01), Heft 1-2, S. 37-40
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Characterisation of room temperature blue emmiting Si/SiO.sub.2 multilayers
    Modreanu, M. ; Aperathitis, E. ; et al.
    In: Optical Materials, Jg. 27 (2005-02-01), Heft 5, S. 1020-1025
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  7. Detailansicht für Treffer 7 öffnen
    The effects of plasma treatment on the thermal stability of HfO.sub.2 thin films
    Chang, Kow-Ming ; Chen, Bwo-Ning ; et al.
    In: Applied Surface Science, Jg. 254 (2008-07-30), Heft 19, S. 6116-6118
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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