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    Investigation into the selectivity of CVD iron from Fe(CO)5 precursor on various metal and dielectric patterned substrates
    BAIN, M. F ; LOW, Y. H ; et al.
    In: Proceedings of the 16th European Conference on Chemical Vapor Deposition (EUROCVD-16), The Hague, Jg. 201 (2007), Heft 22-23, S. 8998-9002
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Porous ultra low k deposited by PECVD : From deposition to material properties
    JOUSSEAUME, V ; FAVENNEC, L ; et al.
    In: Proceedings of the 16th European Conference on Chemical Vapor Deposition (EUROCVD-16), The Hague, Jg. 201 (2007), Heft 22-23, S. 9248-9251
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Molecular design of improved precursors for the MOCVD of oxides used in microelectronics
    JONES, Anthony C ; ASPINALL, Helen C ; et al.
    In: Proceedings of the 16th European Conference on Chemical Vapor Deposition (EUROCVD-16), The Hague, Jg. 201 (2007), Heft 22-23, S. 9046-9054
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Low-k dielectrics on base of silicon carbon nitride films
    FAINER, Nadezhda ; RUMYANTSEV, Yuri ; et al.
    In: Proceedings of the 16th European Conference on Chemical Vapor Deposition (EUROCVD-16), The Hague, Jg. 201 (2007), Heft 22-23, S. 9269-9274
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Improving ALD growth rate via ligand basicity : Quantum chemical calculations on lanthanum precursors
    ELLIOTT, Simon D
    In: Proceedings of the 16th European Conference on Chemical Vapor Deposition (EUROCVD-16), The Hague, Jg. 201 (2007), Heft 22-23, S. 9076-9081
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Effects of high temperature annealing on MOCVD grown CaCu3Ti4O12 films on LaAlO3 substrates
    LO NIGRO, Raffaella ; TORO, Roberta G ; et al.
    In: Proceedings of the 16th European Conference on Chemical Vapor Deposition (EUROCVD-16), The Hague, Jg. 201 (2007), Heft 22-23, S. 9243-9247
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    A-SiC: H low-k deposition as copper diffusion barrier layer in advanced microelectronic interconnections
    CHARLES-ALFRED, C ; JOUSSEAUME, V
    In: Proceedings of the 16th European Conference on Chemical Vapor Deposition (EUROCVD-16), The Hague, Jg. 201 (2007), Heft 22-23, S. 9260-9263
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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sm 576 - 768
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