Zum Hauptinhalt springen
UB Hagen

Suchergebnisse

UB Katalog

Artikel & mehr
25 Treffer

Suchmaske

Suchtipp für den Bereich Artikel & mehr: Wörter werden automatisch mit UND verknüpft. Eine ODER-Verknüpfung erreicht man mit dem Zeichen "|", eine NICHT-Verknüpfung mit einem "-" (Minus) vor einem Wort. Anführungszeichen ermöglichen eine Phrasensuche.
Beispiele: (burg | schloss) -mittelalter, "berufliche bildung"

Das folgende Suchfeld wird hier nicht unterstützt: "Signatur / Strichcode".

Suchergebnisse einschränken oder erweitern

Aktive Suchfilter

Erscheinungszeitraum

Mehr Treffer

Weniger Treffer

Gefunden in

Schlagwort

Verlag

Publikation

Sprache

25 Treffer

Sortierung: 
  1. Detailansicht für Treffer 1 öffnen
    Selection of DBO measurement wavelength for bottom mark asymmetry based on FDTD method
    Xu, Buqing ; Wu, Qiang ; et al.
    In: Journal of Semiconductors, Jg. 40 (2019-12-01), S. 122403-122403
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  2. Detailansicht für Treffer 2 öffnen
    Artificial Neural Network for Diffraction Based Overlay Measurement
    Kuo, Hung-Fei ; Faricha, Anifatul
    In: IEEE Access, Jg. 4 (2016), S. 7479-7486
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Volltext
    Wie komme ich dran?
  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    Novel diffraction based overlay metrology utilizing phase-based overlay for improved robustness
    Olson, Ping ; Reece, Jason ; et al.
    In: Metrology, Inspection, and Process Control for Semiconductor Manufacturing XXXV, 2021-02-22
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Reducing the overlay metrology sensitivity to perturbations of the measurement stack
    Hans Van Der Laan ; Zhou, Yue ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2017-03-28
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    Diffraction-based and image-based overlay evaluation for advanced technology node
    Qiaoli, Chen ; Zhi, Hui ; et al.
    In: 2017 China Semiconductor Technology International Conference (CSTIC), 2017-03-01
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Scatterometry or imaging overlay: a comparative study
    Yuan Chi Pai ; Kuo, Kelly T. L. ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2015-03-19
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  7. Detailansicht für Treffer 7 öffnen
    Improvement of CD-SEM mark position measurement accuracy
    Fukuhara, Kazuya ; Kasa, Kentaro
    In: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXVIII, 2014-04-02
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    Reduction of image-based ADI-to-AEI overlay inconsistency with improved algorithm
    Gau, Tsai-Sheng ; Chen, Kai-Hsiung ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2013-04-18
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    Evaluating diffraction-based overlay
    Goelzer, Gary ; Smith, Nigel ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2012-03-29
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Faster diffraction-based overlay measurements with smaller targets using 3D gratings
    Volkman, Catherine ; Liu, Yongdong ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2012-03-29
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Overlay accuracy fundamentals
    Kandel, Daniel ; Amit, Eran ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2012-03-29
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Diffraction-based overlay measurement on dedicated mark using rigorous modeling method
    Lu, Hailiang ; Zhou, Chang ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2012-03-29
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Advancements of diffraction-based overlay metrology for double patterning
    Weher, Ulrich ; Li, Jie ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2011-03-17
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Diffraction-based overlay for spacer patterning and double patterning technology
    Park, Sarohan ; Fuchs, Andreas ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2011-03-17
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Achieving optimum diffraction based overlay performance
    Cheng, Shaunee ; Vanoppen, Peter ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2010-03-11
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Evaluating diffraction based overlay metrology for double patterning technologies
    Kritsun, Oleg ; Bruno La Fontaine ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2008-03-14
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Diffraction based overlay metrology for α-carbon applications
    Dasari, Prasad ; Goelzer, Gary ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2008-03-14
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Micro-Optics for Photolithography
    Voelkel, Reinhard
    In: Optik & Photonik, Jg. 11 (2016-04-01), S. 45-48
    Online unknown
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Backscattered electron simulations to evaluate sensitivity against electron dosage of buried semiconductor features
    Mukhtar, Maseeh ; Thiel, Bradley L.
    In: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXXII, 2018-03-13
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    A complete methodology towards accuracy and lot-to-lot robustness in on-product overlay metrology using flexible wavelength selection
    Martin Jacobus Johan Jak ; Fuchs, Andreas ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2017-03-28
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
xl 1200 - 1366
xxl 1366 -