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    Using Ellipsoidal Layout Style to Boost the Electrical Performance of the MOSFETs Regarding the 180 nm CMOS ICs Manufacturing Process
    Salvador Pinillos Gimenez ; William Souza Cruz ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 85 (2018-04-10), S. 97-102
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    (Invited)Extending Advanced CMOS Scaling with SiGe Channel Materials
    Rana, Uzma ; Sohn, D. K. ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 85 (2018-04-09), S. 3-10
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    (Invited) Comprehensive Assessment of Oxide Memristors As Post-CMOS Memory and Logic Devices
    Marinella, Matthew J. ; Gao, Xujiao ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 72 (2016-04-25), S. 49-58
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    (Invited) Pixel-Parallel CMOS Image Sensors with 16-Bit A/D Converters Developed by 3-D Integration of SOI Layers with Au/SiO2 Hybrid Bonding
    Hiramoto, Toshiro ; Honda, Yuki ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 72 (2016-04-25), S. 3-6
    Online unknown
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    (Invited) Strained-SiGe Channel FinFETs for High-Performance CMOS: Opportunities and Challenges
    Ott, John A. ; Park, Dae-Gyu ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 66 (2015-03-31), S. 17-30
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    (Invited) Development of Novel Three-Dimensional Structuring of Integrated Circuits by Using Low Temperature Direct Bonding for CMOS Image Sensors
    Hiramoto, Toshiro ; Higurashi, Eiji ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 61 (2014-03-19), S. 87-90
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    A Compact Behavioral Simulation Model for CMOS Vertical Hall-Effect Devices
    Wu, Jun ; Wang, Dejun ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 60 (2014-02-27), S. 33-38
    Online unknown
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    Exploratory NEMS-CMOS Hybrid Devices for Post CMOS Era
    Byoung Hun Lee
    In: ECS Transactions, Jg. 18 (2009-03-06), S. 857-862
    Online unknown
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    (Invited) Advanced CMOS Scaling and FinFET Technology
    Edward Joseph Nowak
    In: ECS Transactions, Jg. 50 (2013-03-15), S. 3-16
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    A CMOS Potentiostat Circuit for Parallel Direct DNA Sensing
    Liu, Zewen ; Wu, Cinan ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 52 (2013-03-08), S. 1099-1104
    Online unknown
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    Simulations of FDSOI CMOS with Sharing Contact between Source/Drain and Back Gate
    Yin, Haizhou ; Chen, Dapeng ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 34 (2011-03-21), S. 43-48
    Online unknown
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    (Invited) From MEMS-CMOS towards Heterogeneous Integration over Scale
    Toshiyoshi, Hiroshi ; Fujita, Hiroyuki ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 45 (2012-04-27), S. 93-99
    Online unknown
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    CMOS Technology Scaling for System-On-Chip Integration - Past, Present and Future
    Jan, Chia-Hong
    In: ECS Transactions, Jg. 44 (2012-03-16), S. 451-470
    Online unknown
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    A Study of Stress Technology for 65nm Generic CMOS Technology
    Yu, Xing ; Lim, Louis ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 18 (2009-03-06), S. 67-70
    Online unknown
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    Wafer Level Statistical Evaluation of the Proton Radiation Hardness of a High-k Dielectric/Metal Gate 45 nm Bulk CMOS Technology
    Simoen, Eddy ; Claeys, C. ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 50 (2013-03-15), S. 213-222
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    Challenges and Solutions of Extremely Thin SOI (ETSOI) for CMOS Scaling to 22nm Node and Beyond
    Schmitz, Stefan ; Shahidi, Ghavam G. ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 27 (2010-11-23), S. 951-957
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    (Invited) Performance and Reliability of a 25Gb/s Ge Waveguide Photodetector Integrated in a CMOS Process
    Guckenberger, Drew ; Sahni, Subal ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 33 (2010-10-01), S. 741-747
    Online unknown
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    (Invited) Beyond CMOS Devices as Enablers of Future Energy Efficient Integrated Circuits and Systems
    Ionescu, Adrian M. ; Salvatore, Giovanni A. ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 33 (2010-10-01), S. 73-76
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    Physical and Electrical Properties of MOCVD and ALD Deposited HfZrO4 Gate Dielectrics for 32nm CMOS High Performance Logic SOI Technologies
    Stephan, Rolf ; Wilde, Lutz ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 33 (2010-10-01), S. 3-14
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    (Invited) High-k Gate Dielectrics for Nanoscale CMOS Devices: Status, Challenges, and Future
    Wang, Xinlin ; Park, Dae-Gyu
    In: ECS Transactions, Jg. 28 (2010-04-16), S. 39-50
    Online unknown
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