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    Characterization and Metrology of Novel Materials Involved in Advanced CMOS Processes : Analytical techniques for semiconductor materials and process characterization
    Wyon, C.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, Jg. 5133 (2003), S. 207-222
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Challenges for Integration of Source-Drain Contacts into Emerging Future Generation CMOS Devices : Rapid thermal and other short-time processing technologies
    Roy, R. A.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, 2002, S. 429-440
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Laser Annealing for Ultra-Shallow Junction Formation in Advanced CMOS : Rapid thermal and other short-time processing technologies
    Surdeanu, R. ; Ponomarev, Y. V. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, 2002, S. 413-426
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Molecular Beam Deposition of Alternate Gate Dielectrics for Si CMOS : Rapid thermal and other short-time processing technologies
    Bojarczuk, N. A. ; Guha, S. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, 2002, S. 137-144
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Novel HfSiON Gate Dielectric for Advanced CMOS Devices : Rapid thermal and other short-time processing technologies
    Colombo, L. ; Visokay, M. R. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, 2002, S. 199-206
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Thermal Technologies for Sub-100nm CMOS Scaling: Development Strategies : Rapid thermal and other short-time processing technologies
    Meissner, P. ; Hegedus, A. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, 2002, S. 37-46
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Dual Salicide and Self-aligned Metal Gate Formation for Sub-0.25m̆ CMOS Technologies Using CMP : Chemical mechanical planarization in integrated circuit device manufacturing
    Weling, M. ; Lin, X. W.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, , Heft 7, S. 19-25
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Vapor Phase HF Cleaning in CMOS Production : Cleaning technology in semiconductor device manufacturing
    O'Brien, S. ; Bohannon, B. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, Jg. 94-7, S. 233-240
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    SOI Technology for Deep-Submicron CMOS Applications : ULSI science and technology, 1993
    Colinge, J. P.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, Jg. 93-13, S. 39-54
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
xl 1200 - 1366
xxl 1366 -