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    Etch performance of Ar/[N.sub.2]/[F.sub.2] for CVD/ALD chamber clean
    Riva, Marcello ; Pittroff, Michael ; et al.
    In: Solid State Technology, Jg. 52 (2009-02-01), Heft 2, S. 20-24
    Online serialPeriodical
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    Implementation of CVD low-k dielectrics for high-volume production
    Ruelke, Hartmut ; Huebler, Peter ; et al.
    In: Solid State Technology, Jg. 47 (2004), Heft 1, S. 60-63
    Online serialPeriodical
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
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    For DRAM and logic: CVD low-k dielectric inteqration. (Deposition)
    Buchanan, Keith
    In: Solid State Technology, Jg. 45 (2002-06-01), Heft 6, S. 59-62
    Online serialPeriodical
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
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    CVD Equipment Corp
    In: Solid State Technology, Jg. 44 (2001-03-01), Heft 3, S. 26
    Online serialPeriodical
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
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    Vapor delivery methods for CVD: an equipment selection guide
    Sullivan, Laura A. ; Han, Bin
    In: Solid State Technology, Jg. 39 (1996-05-01), Heft 5, S. 91-96
    Online serialPeriodical
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    Applied Materials Unleashes Ultima HDP-CVD Tool
    In: Electronic News (1991), Jg. 46 (2000-09-18), Heft 38, S. 60
    Online serialPeriodical
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
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    Safety and environmental concerns of CVD copper precursors
    Zorich, Bob ; Majors, Mary
    In: Solid State Technology, Jg. 41 (1998-09-01), Heft 9, S. 101-104
    Online serialPeriodical
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    Next-generation CVD aluminum precursors pose new handling challenges
    McGrew, Clark E.
    In: Solid State Technology, Jg. 40 (1997-06-01), Heft 6, S. 193-197
    Online serialPeriodical
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    Integrated CVD titanium and titanium nitride processes for sub-0.5-micrometer metallization
    Hillman, Joseph ; Foster, Robert ; et al.
    In: Solid State Technology, Jg. 38 (1995-07-01), Heft 7, S. 147-150
    Online serialPeriodical
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    HDP-CVD: trying to lasso lightning
    Korczynski, Ed
    In: Solid State Technology, Jg. 39 (1996-04-01), Heft 4, S. 63-69
    Online serialPeriodical
    Siehe Detailanzeige für Volltext
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    High-density plasma CVD and CMP for 0.25-micrometer intermetal dielectric processing
    Pye, J.T. ; Fry, H.W. ; et al.
    In: Solid State Technology, Jg. 38 (1995-12-01), Heft 12, S. 65-69
    Online serialPeriodical
    Siehe Detailanzeige für Volltext
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  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Ion bombardment: a determining factor in plasma CVD
    Hey, H.P.W. ; Sluijk, B.G. ; et al.
    In: Solid State Technology, Jg. 33 (1990-04-01), Heft 4, S. 139-144
    serialPeriodical
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    CVD TEOS/O3: development history and applications
    Maeda, Kazuo ; Fisher, Stephen M.
    In: Solid State Technology, Jg. 36 (1993-06-01), Heft 6, S. 83-87
    serialPeriodical
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Plasma enhanced CVD for flat panel displays
    Crowley, John L.
    In: Solid State Technology, Jg. 35 (1992-02-01), Heft 2, S. 94-97
    serialPeriodical
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    The evolution of commercial plasma enhanced CVD systems
    Rosler, Richard S.
    In: Solid State Technology, Jg. 34 (1991-06-01), Heft 6, S. 67-71
    serialPeriodical
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Applied Materials on CVD roll
    Erkanat, Judy
    In: Electronic News (1991), Jg. 42 (1996-12-09), Heft 2146, S. 53-54
    Online serialPeriodical
    Zugriff:
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Applied Materials, Novellus face off on one-step CVD process system
    Erkanat, Judy
    In: Electronic News (1991), Jg. 42 (1996-02-26), Heft 2105, S. 1-2
    Online serialPeriodical
    Zugriff:
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Ultrahigh-vacuum CVD process makes SiGe devices
    Meyerson, Bernard S.
    In: Solid State Technology, Jg. 37 (1994-02-01), Heft 2, S. 53-55
    serialPeriodical
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Single wafer rapid thermal CVD for poly-emitter bipolar and BiCMOS devices
    Kermani, Ahmad ; Wong, Fred
    In: Solid State Technology, Jg. 33 (1990-07-01), Heft 7, S. 41-43
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  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    CVD for large area, flat panel displays
    In: Solid State Technology, Jg. 33 (1990-05-01), Heft 5, S. 265-267
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
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