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    From Computational Lithography to Computational Inspection: Inverse Lithography Technology (ILT) and Inverse Inspection Technology (IIT)
    Dam, Thuc ; Cecil, Tom ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 27 (2010-11-23), S. 433-442
    Online unknown
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    Wie komme ich dran?
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    MSB for ILT masks
    Stoeckel, Arnd ; Boettcher, Monika ; et al.
    In: 27th European Mask and Lithography Conference, 2011-02-02
    Online unknown
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    Wie komme ich dran?
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    Inverse lithography technology (ILT): keep the balance between SRAF and MRC at 45 and 32 nm
    Dam, Thuc ; Mihic, Kresimir ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2007-10-05
    Online unknown
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    Wie komme ich dran?
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    Inverse lithography technology (ILT): a natural solution for model-based SRAF at 45nm and 32nm
    Pang, Linyong ; Abrams, Dan ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2007-05-03
    Online unknown
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    Inverse Lithography Technology (ILT): what is the impact to the photomask industry?
    Abrams, Dan ; Liu, Yong ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2006-05-04
    Online unknown
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    Wie komme ich dran?
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    Manufacturability study of masks created by inverse lithography technology (ILT)
    Liu, Y. Q. ; Martin, Patrick M. ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2005-10-21
    Online unknown
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    The capability of lithography simulation based on MVM-SEM®system
    Miyashita, Hiroyuki ; Kuribara, Masayuki ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2015-10-23
    Online unknown
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    Enabling the 14nm node contact patterning using advanced RET solutions
    Villaret, Alexandre ; Word, James ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2015-09-04
    Online unknown
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    Inverse lithography technology at chip scale
    Lin, Benjamin ; Ho, Jonathan ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2006-03-10
    Online unknown
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    Real-world impact of inverse lithography technology
    Wang, Yan ; Lin, Orson ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2005-10-21
    Online unknown
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  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Contour metrology accuracy assessment using TMU analysis
    Figueiro, Thiago ; Sendelbach, Matthew ; et al.
    2021
    Online unknown
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    Seamless-merging-oriented parallel inverse lithography technology
    Shanhu, Shen ; Yiwei, Yang ; et al.
    In: Journal of Semiconductors, Jg. 30 (2009-10-01), S. 106002-106002
    Online unknown
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  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Automatic classification and defect verification based on inspection technology with lithography simulation
    Yoshikawa, Shingo ; Imai, Hidemichi ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2015-10-23
    Online unknown
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    Model-based SRAF solutions for advanced technology nodes
    Jayaram, Srividya ; Word, James ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2013-10-01
    Online unknown
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    Computational lithography and inspection (CLI) and its applications in mask inspection, metrology, review, and repair
    Pang, Linyong ; Peng, Danping ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2010-09-30
    Online unknown
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    Wie komme ich dran?
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    Resolving contact conflict for double patterning split
    Yesilada, Emek ; Besacier, M. ; et al.
    In: SPIE Proceedings, 2009-10-01
    Online unknown
    Zugriff:
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    Wie komme ich dran?
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