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    Effect of oxidant on downstream microwave plasma enhanced CVD of hafnium oxynitride films
    QIAN, LUO ; HESS, Dennis W ; et al.
    In: Special issue on high-permittivity dielectric oxides, Jg. 12 (2006), Heft 2-3, S. 181-186
    academicJournal
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    CVD of Zr0.65Ti0.35O2 thin films using a single-source precursor of novel anhydrous mixed-metal nitrates
    QIYUE, SHAO ; AIDONG, LI ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 12 (2006), Heft 7, S. 423-428
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Morphology-controllable CVD synthesis of carbon nanomaterials on an alkali-element-doped Cu catalyst
    XINYONG, TAO ; XIAOBIN, ZHANG ; et al.
    In: Special issue on carbon nanotubes, Jg. 12 (2006), Heft 6, S. 353-356
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Application of LTPL investigation methods to CVD-grown SiC
    CAMASSEL, Jean ; JUILLAGUET, Sandrine ; et al.
    In: Special issue on silicon carbide CVD for electronic device applications, Jg. 12 (2006), Heft 8-9, S. 549-556
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    The properties of Si1-xGex nanodot arrays prepared by plasma-enhanced CVD on porous alumina templates
    HAILONG, HU ; DEYAN, HE
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 12 (2006), Heft 12, S. 751-754
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Atmospheric pressure CVD of TiSe2 thin films on glass
    BOSCHER, Nicolas D ; CARMALT, Claire J ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 12 (2006), Heft 1, S. 54-58
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    A low-temperature atmospheric pressure CVD process for growing thin films of MoO3 and MoO3-WO3 for electrochromic device applications
    GESHEVA, Kostadinka A ; IVANOVA, Tatyana
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 12 (2006), Heft 4, S. 231-238
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Template-based CVD synthesis of ZnS nanotube arrays
    SHEN, Xiao-Ping ; MIN, HAN ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 11 (2005), Heft 5, S. 250-253
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
    Wie komme ich dran?
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    Combinatorial CVD of zirconium, hafnium, and tin dioxide mixtures for applications as high-κ materials
    BIN, XIA ; FANG, CHEN ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 10 (2004), Heft 4, S. 195-200
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
    Wie komme ich dran?
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    CVD of epitaxial SnO2 films by the SnI4/O2precursor combination
    SUNDQVIST, Jonas ; OTTOSSON, Mikael ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 10 (2004), Heft 2, S. 77-82
    Online academicJournal
    Zugriff:
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    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    The metal-organic CVD of lanthanunm nickelate electrodes for use in ferroelectric devices
    LANE, Penelope A ; CROSBIE, Michael J ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 9 (2003), Heft 2, S. 87-92
    Online academicJournal
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    Nucleation and growth of nanophasic CeO2 thin films by plasma-enhanced CVD
    BARRECA, Davide ; GASPAROTTO, Alberto ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 9 (2003), Heft 4, S. 199-206
    Online academicJournal
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  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Liquid-delivery metal-organic CVD of strontium bismuth tantalate thin films using Sr[Ta(OC2H5)5(OC2H4OCH3)]2 and Bi(C6H5)3 precursors
    SHIN, Woong-Chul ; CHOI, Kyu-Jeong ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 8 (2002), Heft 5, S. 221-225
    Online academicJournal
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    Structure-property relationships of amorphous hydrogenated silicon-carbon films produced by atomic hydrogen-induced CVD from a single-source precursor
    WROBEL, Aleksander M ; WICKRAMANAYAKA, Sunil ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 6 (2000), Heft 6, S. 315-322
    Online academicJournal
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Low dielectric constant SiO2:C, F films prepared from Si(OC2H5)4/C4F8/Ar by plasma-enhanced CVD
    DING, Shi-Jin ; ZHANG, David Wei ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 7 (2001), Heft 4, S. 142-146
    Online academicJournal
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    YBa2Cu3O7-x thin films and YBa2Cu3O7-x/CeO2 heteroepitaxial structures grown on YSZ substrates by pulsed injection CVD
    ABRUTIS, A ; PLAUSINAITIENE, V ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 5 (1999), Heft 4, S. 171-177
    Online academicJournal
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    CVD of CrO2 : Towards a lower temperature deposition process
    SOUSA, Pedro M ; DIAS, Sonia A ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 12 (2006), Heft 12, S. 712-714
    academicJournal
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    CVD of titanium oxide thin films from the reaction of tetrakis(dimethylamido)titanium with oxygen
    WOODS, Jaime B ; BEACH, David B ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 11 (2005), Heft 6-7, S. 289-291
    Online academicJournal
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    Low-pressure metal-organic CVD of transparent and p-type conducting CuCrO2 thin films with high conductivity
    MAHAPATRA, Suddhasatta ; SHIVASHANKAR, Srinivasrao A
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 9 (2003), Heft 5, S. 238-240
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    Efficient incorporation of the Ti component with a novel titanium diolate complex in the CVD of Ba1-xSrxTiO3 thin films
    JONG SEUNG, LEE ; SUNG HO, HONG ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 10 (2004), Heft 2
    Online academicJournal
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