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    Sub-bandgap optical absorption spectroscopy of hydrogenated microcrystalline silicon thin films prepared using hot-wire CVD (Cat-CVD) process
    GOKTAS, O ; ISIK, N ; et al.
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 121-124
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Relation between pin a-Si:H solar-cell performances and intrinsic-layer properties prepared by Cat-CVD
    KITAMURA, T ; HONDA, K ; et al.
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 264-267
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Potential of Cat-CVD deposited a-SiC:H as diffusion barrier layer on low-k HSQ films for ULSI
    SUNIL KUMAR, SINGH ; KUMBHAR, Alka A ; et al.
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 318-321
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Low-temperature growth of Si-based organic-inorganic hybrid materials, Si-O-C and Si-N-C, by organic Cat-CVD
    NAKAYAMA, Hiroshi ; HATA, Tsuyoshi
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 190-194
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    A layer-by-layer Cat-CVD of conformal and stoichiometric silicon nitride with in-situ H2 post-treatment
    KITAZOE, Makiko ; OSONO, Shuuji ; et al.
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 160-163
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Cat-CVD (hot-wire CVD): how different from PECVD in preparing amorphous silicon
    MATSUMURA, Hideki ; UMEMOTO, Hironobu ; et al.
    In: Amorphous and Microcrystalline Semiconductors - Science and Technology, Jg. 338-40 (2004), S. 19-26
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    The mechanism of alumina formation from TMA and molecular oxygen using catalytic-CVD with an iridium catalyzer
    OGITA, Yoh-Ichiro ; TOMITA, Toshiyuki
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 35-38
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    The bias-assisted HF CVD nucleation of diamond : Investigations on the substrate temperature and the filaments location
    LARIJANI, M. M ; NAVINROOZ, A ; et al.
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 206-210
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Tandem and triple junction silicon thin film solar cells with intrinsic layers prepared by hot-wire CVD
    STOLK, R. L ; LI, H ; et al.
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 256-259
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Microstructural defect characterisation of a-Si:H deposited by low temperature HW-CVD on paper substrates
    BRITTON, D. T ; HITTING, M ; et al.
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 79-83
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Internal stress in Cat-CVD microcrystalline Si:H thin films
    SAHU, Laxmi ; KALE, Nitin ; et al.
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 117-120
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Effect of H2 dilution on Cat-CVD a-SiC:H films
    SWAIN, Bibhu P ; GUNDU RAO, T. K ; et al.
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 173-176
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Beneficial effects of sputtered ZnO:Al protection layer on SnO2:F for high-deposition rate hot-wire CVD p-i-n solar cells
    FRANKEN, R. H ; VAN DER WERF, C. H. M ; et al.
    In: Proceedings of the Third International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) Process, Utrecht, The Netherlands, August 23-27, 2004, Jg. 501 (2006), Heft 1-2, S. 47-50
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Modeling and measurement of film deposition in a one-dimensional hot-wire CVD system
    JIE, ZHOU ; WOLDEN, Colin A
    In: Proceedings of the Second International Conference on Cat-CVD (Hot Wire CVD) Process, Denver, Colorado, USA, September 10-13, 2002, Jg. 430 (2003), Heft 1-2, S. 28-32
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Coverage properties of silicon nitride film prepared by the Cat-CVD method
    OSONO, S ; UCHIYAMA, Y ; et al.
    In: Proceedings of the Second International Conference on Cat-CVD (Hot Wire CVD) Process, Denver, Colorado, USA, September 10-13, 2002, Jg. 430 (2003), Heft 1-2, S. 165-169
    Konferenz
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    Characterization of Cat-CVD grown Si-C and Si-C-O dielectric films for ULSI applications
    TAKATSUJI, K ; KAWAKAMI, M ; et al.
    In: Proceedings of the Second International Conference on Cat-CVD (Hot Wire CVD) Process, Denver, Colorado, USA, September 10-13, 2002, Jg. 430 (2003), Heft 1-2, S. 116-119
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Identification and gas phase kinetics of radical species in Cat-CVD processes of SiH4
    NOZAKI, Yoshitaka ; KITAZOE, Makiko ; et al.
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 47-50
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    High-stability hydrogenated amorphous silicon films for light-soaking prepared by catalytic CVD at high deposition rates
    ITOH, Masaya ; ISHIBASHI, Yoriko ; et al.
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 138-141
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Growth mechanisms and structural properties of microcrystalline silicon films deposited by catalytic CVD
    NIIKURA, C ; KIM, S. Y ; et al.
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 178-183
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Development of Cat-CVD apparatus : a method to control wafer temperatures under thermal influence of heated catalyzer
    KARASAWA, Minoru ; MASUDA, Atsushi ; et al.
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 71-74
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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