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    Loading of porous metal-organic open frameworks with organometallic CVD precursors : inclusion compounds of the type [LnM]a@MOF-5
    HERMES, Stephan ; SCHRÖDER, Felicitas ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 16 (2006), Heft 25, S. 2464-2472
    Online academicJournal
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    Deposition of Ru and RuO2 thin films employing dicarbonyl bis-diketonate ruthenium complexes as CVD source reagents
    LAI, Ying-Hui ; CHEN, Yao-Lun ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 13 (2003), Heft 8, S. 1999-2006
    Online academicJournal
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    Fluorinated aminoalkoxide CuII complexes: new CVD precursors for deposition of copper metal
    YUN, CHI ; HSU, Peng-Fu ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 12 (2002), Heft 12, S. 3541-3550
    Online academicJournal
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    Deposition of osmium thin films using pyrazolate complexes as CVD source reagents
    YUN, CHI ; YU, Huan-Li ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 12 (2002), Heft 5, S. 1363-1369
    Online academicJournal
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    A scalable CVD synthesis of high-purity single-walled carbon nanotubes with porous MgO as support material
    LI, QINGWEN ; YAN, HAO ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 12 (2002), Heft 4, S. 1179-1183
    Online academicJournal
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    The deposition of thin films of CuME2 by CVD techniques (M = In, Ga and E = S, Se)
    PARK, Jin-Ho ; AFZAAL, Mohammad ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 13 (2003), Heft 8, S. 1942-1949
    Online academicJournal
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    Tantalum(v) diethylamide, [Ta(NEt2)5] : a potentially important and crystalline precursor for the CVD of oxides containing tantalum
    DAVIES, Hywel O ; JONES, Anthony C ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 16 (2006), Heft 23, S. 2226-2228
    Online academicJournal
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    Studies of the thermal decomposition of some diselenocarbamato complexes of cadmium or zinc : molecular design for the deposition of MSe films by CVD
    CHUNGGAZE, M ; AZAD MALIK, M ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 9 (1999), Heft 10, S. 2433-2437
    Online academicJournal
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    CVD preparation and characterization of tin dioxide films for electrochemical applications
    YUSTA, F. J ; HITCHMAN, M. L ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 7 (1997), Heft 8, S. 1421-1427
    Online academicJournal
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    Studies of the effects of NF3 on the growth of polysilicon films by low-pressure CVD. II: Effect on crystallinity
    HITCHMAN, M. L ; JUNFU, ZHAO ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 4 (1994), Heft 12, S. 1827-1834
    Online academicJournal
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    Studies of the effects of NF3 on the growth of polysilicon films by low-pressure CVD. I: Effect on growth rate
    HITCHMAN, M. L ; JUNFU, ZHAO ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 4 (1994), Heft 12, S. 1821-1826
    Online academicJournal
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    Studies of the effects of NF3 on the growth of polysilicon films by low-pressure CVD. III: Effect on composition
    HITCHMAN, M. L ; JUNFU, ZHAO ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 4 (1994), Heft 12, S. 1835-1842
    Online academicJournal
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    The mechanism of formation of the Fe species in Fe/ZSM-5 prepared by CVD
    MARTURANO, Pasqualino ; DROZDOVA, Lucie ; et al.
    In: PCCP. Physical chemistry chemical physics (Print), Jg. 3 (2001), Heft 24, S. 5585-5595
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    Magnetic properties of amorphous-like carbons prepared from tetraaza compounds by the chemical vapour deposition (CVD) method
    MURATA, K ; USHIJIMA, H ; et al.
    In: Journal of the Chemical Society. Chemical communications, 1991, Heft 18, S. 1265-1266
    Online academicJournal
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    Remote hydrogen-nitrogen plasma chemical vapor deposition from a tetramethyldisilazane source. Part 1. Mechanism of the process, structure and surface morphology of deposited amorphous hydrogenated silicon carbonitride films
    WROBEL, A. M ; BŁASZCZYK, I ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 13 (2003), Heft 4, S. 731-737
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    Growth of thin layers of metal sulfides by chemical vapour deposition using dual source and single source precursors : routes to Cr2S3, α-MnS and FeS
    ALMOND, Matthew J ; REDMAN, Helen ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 10 (2000), Heft 12, S. 2842-2846
    Online academicJournal
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    Diamond deposition in acetylene-oxygen flames : nucleation and early growth on molybdenum substrates for different pretreatment procedures
    ATAKAN, B ; LUMMER, K ; et al.
    In: PCCP. Physical chemistry chemical physics (Print), Jg. 1 (1999), Heft 13, S. 3151-3156
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    Nitrogen compounds and their influence on diamond deposition in flames
    ATAKAN, B ; BEUGER, M ; et al.
    In: PCCP. Physical chemistry chemical physics (Print), Jg. 1 (1999), Heft 4, S. 705-708
    Online academicJournal
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    A one step approach to B-doped single-walled carbon nanotubes
    AYALA, Paola ; PLANK, Wolfgang ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 18 (2008), Heft 46, S. 5676-5681
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    Selective self-assembly of single walled carbon nanotubes in long steel tubing for chemical separations
    KARWA, Mahesh ; IQBAL, Zafar ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 16 (2006), Heft 28, S. 2890-2895
    Online academicJournal
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