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    CMOS and post-CMOS on-chip microwave pulse power detectors
    JEON, Woochul ; MELNGAILIS, John
    In: ISDRS 2005, Jg. 50 (2006), Heft 6, S. 951-958
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Piezoresistive cantilevers in a commercial CMOS technology for intermolecular force detection
    VILLANUEVA, Guillermo ; PEREZ-MURANO, Francesc ; et al.
    In: Proceedings of the 31st International Conference on Micro- and Nano-Engineering: 19-22 September 2005, Vienna, Austria, Jg. 83 (2006), Heft 4-9, S. 1302-1305
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    CMOS gate oxide defects induced by pre-gate plasma process
    CARRERE, J.-P ; GARNIER, P ; et al.
    In: INFOS 2007: Proceedings of the 15th Biennial Conference on Insulating Films on Semiconductors, June 20-23, Jg. 84 (2007), Heft 9-10, S. 2109-2112
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Fabrication concept for a CMOS-compatible electrostatically driven surface MEMS switch for RF applications
    HARMS, K. U ; HORSTMANN, J. T
    In: Proceedings of the 29th Conference on Micro and Nano Engineering, September 22-25, 2003, Cambridge, United Kingdom, Jg. 73-74 (2004), S. 468-473
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Electrical properties and thermal stability of MOCVD grown Ru gate electrodes for advanced CMOS technology
    TAPAJNA, M ; HUSEKOVA, K ; et al.
    In: Microelectronic engineering, Jg. 83 (2006), Heft 11-12, S. 2412-2416
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    High quality strained Si/SiGe substrates for CMOS and optical devices
    WEBER, J ; NEBRICH, L ; et al.
    In: Proceedings of the ninth european workshop on materials for advanced metallization 2005, 6-9 March 2005, Dresden, Germany, Jg. 82 (2005), Heft 3-4, S. 215-220
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    On-chip embedded toroidal solenoid inductors and transformers formed by post-CMOS micromachining techniques
    LEI, GU ; XINXIN, LI
    In: Microelectronic engineering, Jg. 85 (2008), Heft 4, S. 697-703
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    CMOS compatible bistable electromagnetic microvalve on a single wafer
    BINTORO, Jemmy S ; HESKETH, Peter J ; et al.
    In: European Micro and Nano Systems, Jg. 36 (2005), Heft 7, S. 667-672
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    A hybrid CMOS-SET co-fabrication platform using nano-grain polysilicon wires
    ECOFFEY, S ; POTT, V ; et al.
    In: Micro and Nano Engineering 2004: Proceedings of the 30th International Conference on Micro and Nano Engineering, September 19-22, Jg. 78-79 (2005), S. 239-243
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Micro FET pressure sensor manufactured using CMOS-MEMS technique
    DAI, Ching-Liang ; KAO, Pin-Hsu ; et al.
    In: Microelectronics journal, Jg. 39 (2008), Heft 5, S. 744-749
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    A maskless wet etching silicon dioxide post-CMOS process and its application
    DAI, Ching-Liang
    In: Microelectronic engineering, Jg. 83 (2006), Heft 11-12, S. 2543-2550
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Design and simulation of integrated inductors on porous silicon in CMOS-compatible processes
    CONTOPANAGOS, H ; NASSIOPOULOU, A. G
    In: Solid-state electronics, Jg. 50 (2006), Heft 7-8, S. 1283-1290
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    CMOS compatible bulk micromachined silicon piezoresistive accelerometer with low off-axis sensitivity
    KAL, S ; DAS, S ; et al.
    In: Microelectronics journal, Jg. 37 (2006), Heft 1, S. 22-30
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    An industrial CMOS process family adapted for the fabrication of smart silicon sensors
    MÜLLER, T ; BRANDL, M ; et al.
    In: Sensors and actuators. A, Physical, Jg. 84 (2000), Heft 1-2, S. 126-133
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Hydrogen desorption and diffusion in PECVD silicon nitride. Application to passivation of CMOS active pixel sensors
    BENOIT, D ; REGOLINI, J ; et al.
    In: INFOS 2007: Proceedings of the 15th Biennial Conference on Insulating Films on Semiconductors, June 20-23, Jg. 84 (2007), Heft 9-10, S. 2169-2172
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Characterization and integration of a CVD porous SiOCH (k < 2.5) with enhanced mechanical properties for 65 nm CMOS interconnects and below
    CHAPELON, L. L ; AURAL, V ; et al.
    In: Materials for Advanced Metallization, MAM 2004. Proceedings of the European Workshop on Materials for Advanced Metallization 2004, Brussels, Belgium, March 7-10, Jg. 76 (2004), Heft 1-4, S. 1-7
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    SrHfO3 as gate dielectric for future CMOS technology
    ROSSEL, C ; SOUSA, M ; et al.
    In: INFOS 2007: Proceedings of the 15th Biennial Conference on Insulating Films on Semiconductors, June 20-23, Jg. 84 (2007), Heft 9-10, S. 1869-1873
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Process-variation-and random-dopants-induced threshold voltage fluctuations in nanoscale CMOS and SOI devices
    YIMING, LI ; YU, Shao-Ming ; et al.
    In: INFOS 2007: Proceedings of the 15th Biennial Conference on Insulating Films on Semiconductors, June 20-23, Jg. 84 (2007), Heft 9-10, S. 2117-2120
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Micromachined SU8 negative resist for MMIC applications on low resistivity CMOS substrates
    ELGAID, Khaled ; MCCLOY, David A ; et al.
    In: Proceedings of the 28th International Conference on Micro- and Nano-Engineering, September 16-19, 2002, Lugano, Switzerland, Jg. 67-68 (2003), S. 417-421
    Konferenz
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  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Nanoscale TiN metal gate technology for CMOS integration
    LEMME, M. C ; EFAVI, J. K ; et al.
    In: Proceedings of the 31st International Conference on Micro- and Nano-Engineering: 19-22 September 2005, Vienna, Austria, Jg. 83 (2006), Heft 4-9, S. 1551-1554
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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