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    (Invited) Wafer Bonding: An Integration Route for Hybrid III-V/SiGe CMOS on 300mm
    Hartmann, Jean-Michel ; Djara, Vladimir ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 64 (2014-08-14), S. 199-209
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    Fabrication and Performance of InAlN/GaN-on-Si MOSHEMTs with LaAlO3 Gate Dielectric Using Gate-First CMOS Compatible Process at Low Thermal Budget
    Sarab Preet Singh ; Yi Jie Ngoo ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 61 (2014-03-20), S. 271-280
    Online unknown
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    Fabrication Methodology of Microlenses for Stereoscopic Imagers Using Standard CMOS Process
    Rocha, R. P. ; José Higino Correia ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 49 (2012-08-30), S. 323-330
    Online unknown
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    The Integration of Ge and III-V Materials on GaAs and Si for Post CMOS Applications
    Ching Yi Hsu ; Edward Yi Chang ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 44 (2012-03-16), S. 715-720
    Online unknown
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    A Novel Super-Halo Doping Concept for Nanoscale CMOS Technology
    Zhang, Shengdong ; Liao, Congwei
    In: ECS Transactions, Jg. 18 (2009-03-06), S. 111-116
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    CMOS-Based Microsensors
    Jae Hyeong Seo ; Brand, Oliver
    In: ECS Transactions, Jg. 3 (2006-10-20), S. 447-461
    Online unknown
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    Aspects of Bonding Processed CMOS Wafers
    Knechtel, Roy
    In: ECS Transactions, Jg. 16 (2008-10-03), S. 39-46
    Online unknown
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    Functionalized Back-End Devices for (Bi)CMOS Circuits
    Walczyk, Damian ; Lukosius, Mindaugas ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 33 (2010-10-01), S. 823-829
    Online unknown
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    CMOS Compatible RF MEMS Switches with Serpentine Springs
    Rainey, Paul ; Gamble, Harold ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 18 (2009-03-06), S. 9-14
    Online unknown
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  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    The Effects of Fabrication Process on the Performance of a CMOS Based Capacitive Humidity Sensor
    Demosthenous, Andreas ; Donaldson, N. ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 35 (2011-10-11), S. 71-78
    Online unknown
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    Front-End Process Technology for hp65/45 CMOS Devices
    Nara, Yasuo ; Ootsuka, Fumio ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 2 (2006-04-28), S. 27-31
    Online unknown
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  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Recent Advances in Search for Suitable High-k/Metal Gate Solutions to Replace SiON/Poly-Silicon Gate Stacks in CMOS Devices for 45nm and Beyond Technologies
    Narayanan, Vijay ; Yingan, Wang ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 6 (2007-04-27), S. 287-294
    Online unknown
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  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Fabrication of Directly Bonded Si Substrates with Hybrid Crystal Orientation for Advanced Bulk CMOS Technology
    Berne, Cécile ; Tsyganenko, Kira ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 3 (2006-10-20), S. 409-415
    Online unknown
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Development of Microelectrodes for Integrated CMOS Chemical Sensors
    Cao, Feifei ; Oppenheim, Irving J. ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 16 (2008-10-03), S. 217-225
    Online unknown
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    (Invited) Epitaxial Growth of Ge/III-V Films and Hetero-Layer Lift-off for Ultra-Thin GeOI Fabrication
    Irisawa, Toshifumi ; Wen Hsin Chang ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 98 (2020-09-08), S. 157-167
    Online unknown
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    (Invited) Challenges on Surface Conditioning in 3D Device Architectures: Triple-Gate FinFETs, Gate-All-Around Lateral and Vertical Nanowire FETs
    Vecchio, E. ; Loo, Roger ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 80 (2017-08-15), S. 3-20
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    16kb Phase Change Memory Test Chip with 0.18-μm Process
    Wu, Guanpin ; Xu, Chen ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 22 (2009-07-10), S. 133-144
    Online unknown
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Microscale Chloride Sensor
    Cao, Feifei ; Greve, David W. ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 3 (2006-10-20), S. 215-222
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Dual Floating Gate Flash Cell Using Single Poly Processes
    Wang, Pengfei ; Liu, Lei ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 34 (2011-03-21), S. 155-160
    Online unknown
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  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Epitaxial Ge on Standard STI Patterned Si Wafers: High Quality Virtual Substrates for Ge pMOS and III/V nMOS
    Wang, Gang ; Brammertz, Guy ; et al.
    In: ECS Transactions, Jg. 25 (2009-09-25), S. 335-350
    Online unknown
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