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    Assessment of the critical dimension prediction accuracy for the lumped parameter model for resist lithography
    FUARD, D ; SCHIAVONE, P
    In: Proceedings of the 29th Conference on Micro and Nano Engineering, September 22-25, 2003, Cambridge, United Kingdom, Jg. 73-74 (2004), S. 53-58
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    UV curing effects on mechanical and electrical performances of a PECVD non-porogen porous SiOC:H films (in k [2.2-2.4] range) for 45 nm node and below
    CHAPELON, L. L ; VITIELLO, J ; et al.
    In: Microelectronic engineering, Jg. 83 (2006), Heft 11-12, S. 2136-2141
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Measuring the Young's modulus of ultralow-k materials with the non destructive picosecond ultrasonic method
    CHAPELON, L. L ; VITIELLO, J ; et al.
    In: Microelectronic engineering, Jg. 83 (2006), Heft 11-12, S. 2346-2350
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Correlation between electromigration and Cu-contact angle after de-wetting
    VANYPRE, T ; CORDEAU, M ; et al.
    In: Microelectronic engineering, Jg. 83 (2006), Heft 11-12, S. 2373-2376
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    LaAlO3 films prepared by MBE on LaAlO3(001) and Si(001) substrates
    GAILLARD, S ; ROZIER, Y ; et al.
    In: Infos 2005: Proceedings of the 14th Biennal Conference on Insulating Films on Semiconductors, June 22-24, Jg. 80 (2005), S. 146-149
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Impact of introducing CuSiN self-aligned barriers in advanced copper interconnects
    CHHUN, S ; GOSSET, L. G ; et al.
    In: Proceedings of the ninth european workshop on materials for advanced metallization 2005, 6-9 March 2005, Dresden, Germany, Jg. 82 (2005), Heft 3-4, S. 587-593
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  7. Detailansicht für Treffer 7 öffnen
    Preferential nucleation of silicon nano-crystals on electron beam exposed SiO2 surfaces
    MAZEN, F ; MOLLARD, L ; et al.
    In: Proceedings of the 29th Conference on Micro and Nano Engineering, September 22-25, 2003, Cambridge, United Kingdom, Jg. 73-74 (2004), S. 632-638
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Nucleation control of CVD growth silicon nanocrystals for quantum devices
    BARON, T ; MAZEN, F ; et al.
    In: Micro- and nano- engineering 2001, MNE: proceedings of the 27th international conference on micro- and nano-engineering, September 16-19, Jg. 61-62 (2002), S. 511-515
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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