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In: Advances in low temperature rf plasmas. Basis for process design, Jg. 192 (2002), Heft 1-4, S. 201-215KonferenzZugriff:
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In: ICPEPA-3: Proceedings of Symposium A on Photo-Excited Processes, Diagnostics and Applications of the 1999 E-MRS Spring Conference, Strasbourg, France, June 1-4, Jg. 154-55 (2000), S. 519-526KonferenzZugriff: